半导体封装测试环节中，芯片清洗、引线键合、塑封等工序对水质要求极高，微小的杂质颗粒都可能导致芯片短路或性能下降。合鑫为某半导体封装企业定制的 15T/H 纯水设备，采用 “预处理 + 双级反渗透 + EDI+0.1μm 终端过滤” 工艺，产水电阻率≥16MΩ・cm，颗粒度（≥0.1μm）＜30 个 /ml，TOC＜8ppb。设备配备的高精度在线监测系统，可实时监控水质变化，并自动调整运行参数。该企业引入设备后，封装产品的良品率从 93% 提升至 98%，每年减少因水质问题导致的损失超 500 万元，增强了企业在半导体封装领域的竞争力。超滤膜性能稳定，净化效果持久。珠海饮料厂纯水设备
电子芯片制造、线路板生产对纯水水质要求严苛，微量杂质都会影响产品性能。合鑫为某半导体企业定制的50T/H纯水系统，采用双级反渗透+EDI（电去离子）工艺，产水电阻率稳定在15MΩ・cm以上，TOC（总有机碳）＜10ppb，颗粒度（≥μm）＜100个/ml。设备配备PLC智能控制系统，可实时监测压力、流量、电导率等12项参数，并自动调节运行状态。自2023年投产以来，该企业芯片良品率从92%提升至，年减少次品损失超800万元。依据GMP标准，医药制剂、注射用水需严格控制微生物与内。合鑫为某制药厂设计的20T/H纯水设备，采用“预处理+双级反渗透+EDI+臭氧杀菌+μm终端过滤”工艺，产水符合《中国药典》纯化水要求，微生物＜10CFU/100ml，内＜。设备管道采用316L不锈钢材质，内壁抛光处理（Ra≤μm），配备CIP自动清洗与SIP在线灭菌系统，有效防止微生物滋生。该厂使用后，药品生产批次合格率提升至100%，顺利通过FDA认证。 广西纯水设备生产超滤 - 反渗透组合，提升合鑫纯水设备整体性能。
珠宝首饰加工过程中，清洗、抛光等工序需要使用纯水，以避免水中的杂质和矿物质在珠宝表面残留，影响珠宝的光泽和品质。合鑫为某珠宝加工企业设计的 8T/H 纯水设备，采用 “多介质过滤 + 活性炭吸附 + 反渗透 + 离子交换” 工艺，去除水中的悬浮物、有机物、硬度离子和重金属离子，产水电导率＜8μS/cm，重金属离子＜0.05ppb。设备处理后的纯水用于珠宝首饰的清洗和浸泡，可使珠宝表面更加光洁亮丽，提高珠宝的附加值。该企业使用后，产品的客户满意度提高 30%，订单量稳步增长。
医疗领域对纯水的依赖至关重要，以血液透析为例，透析用水的质量直接关系到患者的生命安全。透析过程中，患者血液与透析液通过半透膜进行物质交换，若透析用水含有重金属、细菌或内毒，这些有害物质会进入患者血液，引发急性溶血、败血症等严重并发症。医疗器械的清洗与消毒用水同样关键，不纯净的水会残留杂质，影响器械的消毒效果，增加交叉传染风险。合鑫纯水设备通过先进的反渗透、EDI（电去离子）技术，结合多级消毒工艺，有效去除水中的各类有害物质，确保医疗用水符合国家相关卫生标准，为医疗工作的安全开展提供有力支持，守护患者健康。EDI 技术让合鑫纯水设备深度脱盐，水质更优。
光伏组件生产中的硅片清洗、电池片制绒和丝网印刷等工序，对水质要求极高。水中的杂质会影响硅片表面清洁度，降低电池片的光电转换效率。合鑫为某大型光伏企业定制的 60T/H 纯水设备，通过 “多介质过滤 + 活性炭吸附 + 反渗透 + 离子交换” 工艺，将产水电导率控制在＜3μS/cm，硬度＜0.1mmol/L，颗粒度＜0.5μm。设备还配备自动加药装置，可根据原水水质实时调节阻垢剂投加量。该企业使用该设备三年来，硅片清洗的良品率从 95% 提升至 99.2%，每年减少次品损失超 150 万元，助力企业在光伏市场中保持地位。多介质过滤，为后续处理创造良好条件。广西纯水设备生产
合鑫组合设备，适应多种工业场景。珠海饮料厂纯水设备
电子显示屏制造过程中，液晶面板清洗、ITO 玻璃蚀刻、偏光片贴合等工序对水质要求极为严格，水中的颗粒杂质、金属离子和有机物会影响显示屏的显示效果和质量。合鑫为某显示屏制造企业定制的 30T/H 纯水设备，采用 “预处理 + 双级反渗透 + EDI + 超滤 + 紫外线杀菌” 工艺，产水电阻率≥15MΩ・cm，颗粒度（≥0.2μm）＜50 个 /ml，TOC＜10ppb。设备还配备了精密的在线监测和自动控制系统，确保水质稳定可靠。该企业使用后，显示屏的坏点率从 2% 降至 0.3%，产品的良品率大幅提升，进一步巩固了市场地位。珠海饮料厂纯水设备
