注意事项针对极敏感部件（如光刻机镜头、光罩镀铬层），需采用“超细亚微米干冰颗粒”（0.5-1μm）和“脉冲式低压力喷射”，避免气流冲击导致的微损伤。清洁过程需在洁净室内**区域进行，配合高效过滤器（HEPA）回收剥离的污染物，防止二次扩散。综上，酷尔森icestorm干冰清洗通过解决半导体行业“微污染去除难、精密部件易损伤、清洁与效率矛盾”三大痛点，成为提升芯片良率（尤其先进制程，如7nm及以下）和生产稳定性的**工艺辅助技术，在半导体国产化趋势中，其应用场景正从设备维护向晶圆直接清洁（如先进封装前的焊盘处理）进一步拓展。在半导体行业，生产环境（如 Class 1 级洁净室）和产品（晶圆、芯片、精密部件）对 “零污染、无损伤、超高洁净度” 的要求堪称工业领域**严苛标准之一。干冰清洗凭借无残留、化学惰性、低温无损、适配精密场景等特性，成为解决半导体生产中 “微污染物去除、设备维护、产品良率提升” 的关键技术。干冰清洗功能强大有效，为清洁工作带来便利。流程便捷合理，优势突出。贵州德国原装干冰清洗24小时服务
coulson的干冰清洗技术在芯片（半导体）制造行业中的应用是一种高效、精密且环保的清洁方法，尤其适用于对污染极度敏感、不能接触液体或化学溶剂、且需要避免物理损伤的精密设备和组件。以下是其在该行业的主要应用场景、优势和技术要点：一、 **应用场景晶圆制造设备维护与清洁：等离子体刻蚀/沉积设备腔室： 这些腔室（如反应室、气体喷淋头、静电卡盘边缘、腔壁、挡板）内部会积累聚合物、残留光刻胶、金属沉积物、副产物等顽固污染物。干冰清洗能有效去除这些沉积物，无需拆卸设备或使用腐蚀性化学品，***减少设备停机时间。化学气相沉积/物***相沉积设备： 类似刻蚀设备，腔室内部、喷头、加热器等部件上的薄膜沉积残留物需要定期去除。离子注入机部件： 清洁束流线、靶室、扫描系统等部件上的污染物。光刻机**部件： 清洁机台框架、导轨、防护罩等非光学**部件上的微粒和有机物（如润滑脂、指纹、环境尘埃），避免污染物迁移到**光学区域。注意：不能直接用于清洁极其精密的光学元件（如透镜、反射镜）。扩散炉管及舟： 清洁炉管口、石英舟等部件上的氧化物、掺杂剂残留等。甘肃全气动干冰清洗生产商酷尔森干冰清洗可应用于电路板清洗领域，不伤板、无废水、无残留、环保可靠，清洗完，焕然如新！
ICEsonic干冰清洗的应用，汽车与交通运输汽车维修保养去除车身油污、胶质涂层，发动机积碳，不损伤车漆或精密部件。轨道交通与航空航天清洁高铁电机、电气设备（免拆解防短路），飞机引擎部件锈蚀与粘合剂。五、电子与精密制造SMT（表面贴装技术）行业关键应用：PCB电路板焊膏/助焊剂残留去除，避免短路。贴片机喷嘴、回流焊炉的精密清洁，保障贴装精度。优势：低温干燥特性保护敏感元件（如光学传感器），深入微隙无残留。
六、其他行业拓展印刷工业：去除油墨沉积，清洁导轨与喷头，减少有害溶剂使用。化工领域：储罐油污、管道结垢清洗，满足环保排放要求。特殊场景：结合选配模块（如Mighty E Dry Ice Plus）可处理环氧树脂、涂鸦等顽固污渍，实现SA 2½级表面光洁度。技术**优势总结环保安全：*使用固态CO₂，无废水、化学污染35。高效经济：支持在线清洗，减少设备拆装时间90%以上。无损操作：非接触式清洁，保护精密部件与表面完整性。若需了解特定设备型号（如SMART IND、IS 77S）的技术参数或行业案例细节，可进一步查阅ICEsonic官网或相关产品手册。
配套耗材—3mm颗粒干冰。干冰易挥发，不易存放太久，建议每次购买够用即可，尽量不要过多储存。干冰保温箱小型周转保温箱：储存容量：50KG保温时间：2--3天。**温干冰保温柜储存容量：100kg-300kg保温时间：每天保存损耗量<1%。酷尔森环保科技（上海）有限公司是一家集干冰清洗设备研发、设计、制造、销售、服务、干冰制造为一体的实体型企业。目前主要做以下产品系列，干冰清洗系统，雪花清洗系统（液态二氧化碳清洗）各种清洗解决方案。目前在国内干冰清洗行业处于**地位，尤其在锂电池产线清洁细分领域始终保持行业***，是中国智能环保清洗的**者。现厂区占地面积12000平方米，设有零件制造车间、产品总装车间、干冰制造车间、质量检测室等作业车间，已量产各种系列型号干冰清洗机、雪花清洗机、积碳清洗机、纯气动干冰清洗机等十多种产品。公司已经通过了ISO9001:2015质量管理体系认证。干冰清洗具备强大清洁功能，对设备无损害。流程简便，优势多多令人称赞。
酷尔森的干冰清洗技术在PCBA（印刷电路板组件）清洗中的应用是一项高效、环保且对敏感组件友好的先进技术，特别适用于传统清洗方法（如水洗、化学溶剂清洗、超声波清洗）存在局限性的场景。以下是干冰清洗在PCBA板应用中的关键方面、优势和注意事项：**工作原理物理冲击：高速喷射的干冰颗粒（通常直径在0.5mm-3mm）撞击污染物表面，产生机械剥离作用。热冲击（低温脆化）：极低温（-78.5°C）的干冰颗粒使污染物（如松香、助焊剂残留、油脂、灰尘）迅速冷冻、变脆，降低其附着力和内聚力，更容易被冲击破碎。升华作用：干冰撞击后瞬间从固态升华为气态（二氧化碳气体），体积急剧膨胀（约800倍），产生微小的“”效应，进一步将破碎的污染物从基底表面剥离。不导电、无残留：干冰颗粒和气态二氧化碳均不导电，清洗后无任何二次残留物（水、化学溶剂等），*留下被剥离的污染物碎屑，可通过抽吸系统收集。酷尔森干冰清洗塑料注塑模具，一喷即净！崭新如初！无损、快捷、无污染！山西便携式干冰清洗卖价
运用干冰清洗，功能独特稳定，清洁无烦恼。流程简洁有序，优势明显。贵州德国原装干冰清洗24小时服务
在半导体行业，生产环境（如 Class 1 级洁净室）和产品（晶圆、芯片、精密部件）对 “零污染、无损伤、超高洁净度” 的要求堪称工业领域**严苛标准之一。酷尔森icestorm干冰清洗凭借无残留、化学惰性、低温无损、适配精密场景等特性，成为解决半导体生产中 “微污染物去除、设备维护、产品良率提升” 的关键技术。其**应用场景覆盖晶圆制造、封装测试及设备维护全流程，具体如下：一、晶圆制造环节：从光刻到沉积 / 刻蚀的精密清洁晶圆（硅片、化合物半导体晶圆）是半导体的**基材，其表面及生产设备的洁净度直接决定芯片的良率（每片晶圆含数百个芯片，一个微米级杂质可能导致整片失效）。干冰清洗在以下关键工序中发挥不可替代的作用：1. 光刻掩模版（光罩）清洁清洁对象：光刻掩模版（表面镀铬层、石英基底）、光罩盒（Pod）。污染问题：光罩是光刻图案的 “母版”，表面若残留纳米级颗粒（≤0.1μm）、有机污染物（如光刻胶残渣）、金属离子，会导致光刻图案转移时出现缺陷（如线宽偏差、图形畸变），直接降低芯片良率。传统清洁（如兆声波清洗、化学湿法清洗）可能引入水分残留或划伤镀铬层（厚度*数十纳米）。贵州德国原装干冰清洗24小时服务
