电解抛光腐蚀,贵金属及其合金电解浸蚀剂和电解抛光液表
|
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
|
氯化钾过饱和 过溶液 400亳升 盐酸 几滴 |
直流电电流密度0.07~0.09安/厘米2 阳极:不锈钢 电解+机械联合抛光法, 时间2~3分钟 |
纯金的电解抛光和电解浸蚀。 |
|
硫脲 8~10克 硫酸 12亳升 乙酸 40亳升 |
直流电: 10~15伏 温度: 常温 时间: 10~60秒 |
金基合金的电解浸蚀。
|
|
硫代硫酸钠 20克 水 400亳升 |
直流电:0.8~1安/厘米2 阳极:不锈钢 电解+机械抛光法,时间0.5~1.5分钟 |
银及其合金的电解抛光。调节电流密度可用于银基合金的电解浸蚀 |

电解抛光腐蚀,电源前面板设有“设定电流”、“设定电压”、“工作”三个状态的“功能选择”开关a.“设定电压”:设定输出电压到需要值(此时未接通负载)先将“电流调节”顺时针调到最大值,然后调节“电压调节”至需要的电压值;“设定电流”:设定输出电流到需要值(此时未接通负载);将“电压调节”顺时针调到最大值;将“电流调节”逆时针调到接近零值;将“功能选择”开关拨至“设定电流”位置,即可调节“电流调节”,使电流达到所需要的电流值。重庆金相电解腐蚀公司晶间腐蚀,有漏电和短路保护。

电解抛光腐蚀参考资料
|
试验材料 |
电解液配比 |
电压 |
时间 |
备注 |
|
不锈钢 1Cr—18Ni9Ti |
酒精(95%) 940ml高氯酸(65%) 60ml |
30~40V |
15~60秒 |
|
|
不锈钢、合金钢、高速钢等 |
酒精(95%)700ml;高氯酸(30%)200ml;甘油(丙三醇)100ml |
15~50V |
15~60秒 |
通用电解液之一 |
|
钢、铸铁、铝、铝合金等 |
酒精(95%)700ml;高氯酸(30%)200ml; 丁氧基乙醇 100ml |
30~65V |
15~60秒 |
比较好的通用配方之一 |
|
不锈钢、碳钢铁、合金钢等 |
醋酸(冰醋酸) 900ml高氯酸(60%) 100ml |
12~70V |
0.5~2分 |
|
|
铀、锆、钛、 铝合金钢、碳钢 |
醋酸(冰醋酸) 800ml高氯酸(60%) 200ml |
40~100V |
1~15分 |
|
|
不锈钢 |
水 250ml 硫酸 750ml |
1.5~6V |
1~2分 |
|
|
不锈钢 |
磷酸(85%) 600ml硫酸 400ml |
1.5~12V |
10~60秒 |
|
|
不锈钢 |
水 80ml 硫酸 720ml 甘油 200ml |
1.5~6V |
0.5~5分 |
|
晶间腐蚀操作主意事项,温度:如果测量加热器温度时应主意溶液的沸点温度,不能将温度设置大于溶液的沸点温度。如果有条件应先将温度传感器进行校准再使用,这样在设置温度的时候4个工位偏差不会很大,不然会有几度的偏差,主意原因是温度传感器线太长、温度传感器测量的位置有误差(测量的时候一定要将传感器塞入测量管底部,用塞子固定避免传感器移动,特别主意,如果传感器移动了,测量温度会一直达不到设定温度,这样长时间工作会烧坏加热器,因为加热器会长时间内满功率工作达到比较高的温度。所以要实时观察各通道温度和溶液沸腾状态,)低倍加热腐蚀检查钢材原材料缺陷和锻造流线。

晶间腐蚀常用的试验方法:硫酸-硫酸铜-铜屑法。适用于检验几乎所有类型的不锈钢和某些镍基合金因碳、氮化物析出引起的晶间腐蚀。奥氏体不锈钢在此溶液中的腐蚀电位处于活化-钝化区。试验结果采用弯曲试样放大镜下观察裂纹或金相法评定。此法腐蚀轻微,试验条件稳定,但判定裂纹需有-定经验;硝酸法。适用于检验不锈钢、镍基合金等因碳化物、o相析出或溶质偏析引起的晶间腐蚀。奥氏体不锈钢在此溶液中的腐蚀电位处于钝化-过钝化区。试验结果采用腐蚀率评定。此法试验周期长;硝酸-氢氟酸法。适用于检验含钼奥氏体不锈钢因碳化物析出引起的晶问腐蚀。奥氏体不锈钢在此溶液中的腐蚀电位处于活化-钝化区。此法试验周期短,但腐蚀严重。试验结果须采用同种材料敏化和固溶试样的腐蚀率比值评定。电解抛光腐蚀,既可用于金相试样的抛光,也可用于金相试样的腐蚀。上海钢的检验腐蚀品牌好
晶间腐蚀的晶粒间结合力会减弱,力学性能恶化。上海钢的检验腐蚀品牌好
晶间腐蚀试验 (intergranular corrosion test),在特定介质条件下检验金属材料晶间腐蚀敏感性的加速金属腐蚀试验方法,目的是为了了解材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理。其原理是采用可使金属的腐蚀电位处在恒电位阳极极化曲线特定区间的各种试验溶液,然后利用金属的晶粒和晶界在该电位区间腐蚀电流的明显的差异加速显示晶间腐蚀,不锈钢、铝合金等的晶间腐蚀试验方法在许多国家均已标准化。各标准对试验细节均有详细规定。上海钢的检验腐蚀品牌好
电解抛光腐蚀,原理:关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特...