晶间腐蚀,晶间腐蚀是一种局部腐蚀,主要发生在金属材料的晶粒间界区,沿着晶界发展,晶界吸附理论:低碳不锈钢在℃固溶处理后,在强氧化性介质中也会出现晶间腐蚀,此时不能用贫铬或相析出理论来解释。当杂质达或杂质达时,它们在高温区会使晶界吸附,并偏析在晶界上,这些杂质在强氧化剂介质作用下便发生溶解,导致晶界选择性的晶间腐蚀,不过这种钢经敏化处理后,反而不出现晶间腐蚀,这是由于碳和磷生成磷的碳化物,限制了磷向晶界的扩散,减轻杂质在晶界的偏析,消除或减弱了对晶间腐蚀的敏感性。电解抛光腐蚀,电压电流调节、显示精度小数点后两位。苏州低倍组织热酸蚀腐蚀公司

电解抛光腐蚀,不适用本方法:不能用塑料镶嵌试样,因为塑料不导电容易被电解液浸蚀:极易受电解液浸蚀的金属相和一些夹杂物不能采用电解抛光:需要边、角的试样,不适宜进行电解抛光。
电解浸蚀参考资料
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试验材料 |
浸蚀液配比 |
电解参数 |
时间 |
阴极材料 |
备注 |
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镍和合金 |
铬酸(10%) |
1.5V 24。C |
1~8秒 |
不锈钢 |
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镍和合金 |
浓硝酸/冰醋酸/水 =2:1:17 |
1.5V 24。C |
20~60秒 |
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好的一种浸蚀液 |
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镍和合金 |
草酸(10%) |
1.5~6V ,24。C |
15~30秒 |
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特别适用于因科镶合金 |
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镍和合金 |
硫酸(8%) |
6V 24。C |
5~30秒 |
不锈钢 |
显示碳化物和晶界,因科镍和镍一铬合金 |

晶间腐蚀操作主意事项,管道:进出水管一定要连接好,如果使用冷水机根据水管上的标识来连接,冷水机端锁紧好喉箍,如果连接反了会出现故障或容易让冷凝器上的水管脱落。乳胶管连接,乳胶管是连接与冷凝器的进水和出水端,下端为进水上端为排水,这样冷凝效果比较好。初次连接的时候可以将管的端部沾一点水,这样容易连接到宝塔接头上,一定要连接到宝塔接头底部这样在使用过程中不容易脱落(因为接头的外径大于管的内径如果没有沾水很难套上)。乳胶管应留长一些,一是方便上下移动冷凝管,短了不方便操作烧瓶的安装与拆卸,二是乳胶管在使用的时候头部容易老化,所以在使用的时候一定要注意,发现有问题可以剪掉老化的部分(特别是使用冷水机,冷水机温度不能设置得太低,后面会说明),乳胶管应避免搭在加热器上方,这样同样会加快乳胶管老化,多于的可以搭在十字夹或者冷凝管夹上往后。
晶间腐蚀试验方法,各标准对试验细节均有详细规定。
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试验方法 |
试验标准 |
试验周期 |
备注 |
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不锈钢晶间腐蚀A法 |
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4天 |
草酸法 |
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不锈钢晶间腐蚀B法 |
7天 |
硫酸-硫酸铁 120h |
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不锈钢晶间腐蚀C法 |
13-15天 |
硝酸法 5*48h |
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不锈钢晶间腐蚀D法 |
4天 |
硝酸-氢氟酸 2*2h |
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不锈钢晶间腐蚀E法 |
4天 |
硫酸-硫酸铜 16h |
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镍基合金晶间腐蚀A法 |
GB/T 15260-1994 |
7天 |
硫酸-硫酸铁 120h |
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镍基合金晶间腐蚀B法 |
3(5)天 |
铜-硫酸铜-硫酸 24h或72h |
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镍基合金晶间腐蚀C法 |
10-12天 |
盐酸法 168h |
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镍基合金晶间腐蚀D法 |
13-15天 |
硝酸法 5*48h |

电解抛光腐蚀原理,关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特性曲线,根据它可以决定合适的电解抛光规范。低倍加热腐蚀采用计算机及可控硅控制低倍组织热酸蚀过程,独特的PID温度控制计算方法。苏州低倍组织热酸蚀腐蚀公司
低倍加热腐蚀根据《GB/T226-91钢的低倍组织及缺陷酸蚀检验法)对钢材进行低倍组织热酸蚀。苏州低倍组织热酸蚀腐蚀公司
低倍组织加热腐蚀,解决所述问题的基本技术方案:一种检验钢的低倍组织及缺陷热、冷酸侵蚀装置,以及操作过程中该装置对操作员安全保护;用耐酸材料(PP材料)的储液槽通过电加热使酸液保持恒温环境状态进行钢的低倍组织及缺陷热、冷酸侵蚀。通过循环储液装置可以防护酸液对操作员更换酸液和放取样品时酸液飞溅带来身体的危害;采用触摸屏人机交互,在硬件结构确定的前提下,通过软件实现具体功能,扩展性好,能很快满足用户特殊需求。苏州低倍组织热酸蚀腐蚀公司
电解抛光腐蚀,原理:关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特...