晶间腐蚀仪器应用于不锈钢的晶间腐蚀的设备,用于检验各种类型的不锈钢、铝合金等材料在特定的温度和腐蚀试剂下晶间腐蚀的状况,从而判定材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理,是金属局部腐蚀的一种,沿着金属晶粒间的分界面向内部扩展的腐蚀,晶间腐蚀会破坏晶粒间的结合,大幅降低金属的机械强度。腐蚀发生后,金属和合金的表面虽然仍保持一定的金属光泽,看不出被破坏的迹象,但晶粒间结合力逐渐减弱,力学性能恶化。由此可见,晶间腐蚀是一种很危险的腐蚀。本仪器是用于评价材料的晶间腐蚀性能的仪器。电解抛光腐蚀,电压、电流范围大,可同时满足各种材料的抛光和腐蚀。低倍组织热酸蚀腐蚀品牌有哪些

晶间腐蚀操作主意事项,温度:溶液温度与沸腾状态:再各通道使用的时候我们会看到在设置相同的温度时候,有的通道会沸腾得厉害,有的基本上没有沸腾主要原因有1、温度传感器各通道有误差或者测量误差;加热器的功率有误差功率大的会沸腾得快一些;各通道烧瓶里的溶液体积有误差,溶液少的会沸腾得快。(冷凝水一定是在相同条件下)如果溶液温度一直稳到达不了设定温度但溶液处于沸腾状态的时候(温度一直保持在最高温度),我们可以手动去设置一下该通道温度值,应低于一直保持最高温度值0.5-1℃或者慢慢以0.5℃为单位减小(应先确保温度传感器测量位置没有问题)山东晶间腐蚀源头厂家晶间腐蚀,有漏电和短路保护。

晶间腐蚀操作主意事项,温度:如果测量加热器温度时应主意溶液的沸点温度,不能将温度设置大于溶液的沸点温度。如果有条件应先将温度传感器进行校准再使用,这样在设置温度的时候4个工位偏差不会很大,不然会有几度的偏差,主意原因是温度传感器线太长、温度传感器测量的位置有误差(测量的时候一定要将传感器塞入测量管底部,用塞子固定避免传感器移动,特别主意,如果传感器移动了,测量温度会一直达不到设定温度,这样长时间工作会烧坏加热器,因为加热器会长时间内满功率工作达到比较高的温度。所以要实时观察各通道温度和溶液沸腾状态,)
电解抛光腐蚀电解浸蚀参考资料
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试验材料 |
浸蚀液配比 |
电解参数 |
时间 |
阴极材料 |
备注 |
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钢 |
苦味酸2g 蒸馏水100ml 氢氧化钠25g |
6V 24。C |
30秒 |
不锈钢 |
低合金钢 染色碳化物 |
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钢 |
铬酸(10%) |
3V 24。C |
可变 |
不锈钢 |
奥氏体或铁素体不锈钢,浸蚀碳化物和υ相 |
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钢 |
草酸(10%) |
3V 24。C |
可变 |
不锈钢 |
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钢 |
硝酸/甘油/盐酸 =1:1:8 |
3~6V 24。C |
10秒 |
不锈钢 |
不锈钢,浸蚀奥氏体。 |
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钢 |
水/硝酸(1.4)=1:1 |
1.5V 24。C |
≤2分 |
不锈钢 |
奥氏体、铁素体不锈钢浸蚀晶界 |
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钢 |
硫酸(1.84)/水=1:19 |
6V 0.1~0.5A 24。C |
5~15秒 |
不锈钢 |
铁—铬—镍合金 |
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钢 |
过硫酸铵10~100g/1升水 |
1.5~2V 24。C |
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不锈钢 |
υ相和碳化物相染色 |
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铝 |
正磷酸 210份 蒸馏水 65份烷基乙醇 45份 |
0.75~1.2A/cm2 24。C |
1.5~2.5分 |
不锈钢 |
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晶间腐蚀,评估材料耐用性:在材料研发和生产过程中,帮助工程师评估材料抵抗晶间腐蚀的能力,预测材料在实际使用环境中的耐用性和使用寿命。对于一些在恶劣环境下使用的关键材料,如在高温、高湿度或强腐蚀性介质中工作的金属材料,通过晶间腐蚀仪的测试,可以提前了解材料的耐腐蚀性能,确保材料在服役期间不会因晶间腐蚀而失效,晶间腐蚀仪是于评价材料晶间腐蚀性能的仪器。,晶间腐蚀是一种局部腐蚀,主要发生在金属材料的晶粒间界区,沿着晶界发展。电解抛光腐蚀,电流、电压精度高,精确到小数点后两位。河北金属抛光腐蚀操作简单
低倍组织热酸蚀腐蚀采用三层样品隔离放置方式,样品取放方便且增加了工作空间,改善腐蚀性。低倍组织热酸蚀腐蚀品牌有哪些
电解抛光腐蚀,贵金属及其合金电解浸蚀剂和电解抛光液表
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浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
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氯化钾过饱和 过溶液 400亳升 盐酸 几滴 |
直流电电流密度0.07~0.09安/厘米2 阳极:不锈钢 电解+机械联合抛光法, 时间2~3分钟 |
纯金的电解抛光和电解浸蚀。 |
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硫脲 8~10克 硫酸 12亳升 乙酸 40亳升 |
直流电: 10~15伏 温度: 常温 时间: 10~60秒 |
金基合金的电解浸蚀。
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硫代硫酸钠 20克 水 400亳升 |
直流电:0.8~1安/厘米2 阳极:不锈钢 电解+机械抛光法,时间0.5~1.5分钟 |
银及其合金的电解抛光。调节电流密度可用于银基合金的电解浸蚀 |
电解抛光腐蚀,原理:关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特...