晶间腐蚀常用的试验方法:硫酸-硫酸铁法适用于检验镍基合金、不锈钢因碳化物析出引起的晶间腐蚀。奥氏体不锈钢在此溶液中的腐蚀电位处于钝化区。试验结果采用腐蚀率和固溶试样腐蚀率比较来评定;草酸浸蚀法主要用作检验奥氏体不锈钢晶间腐蚀的筛选试验。电解浸蚀时腐蚀电位处于过钝化区。浸蚀后用金相显微镜观察浸蚀组织分类评定;盐酸法适用于检验某些高钼镍基合金的晶间腐蚀。试验结果以腐蚀率评定;氯化钠-过氧化氢法适用于检验含铜铝合金的晶间腐蚀。试488验结果采用金相显微镜测量晶间腐蚀深度评定;氯化钠-盐酸法适用于检验铝镁合金的晶间腐蚀。试验结果的评定同上;电化学动电位再活化法(EPR法)。在特定溶液中将试样钝化后再活化,测定动电位扫描极化曲线,以再活化电量评定晶间腐蚀敏感性。此法具有快速的特点。晶间腐蚀,应用于不锈钢的晶间腐蚀的设备。吉林电解腐蚀品牌有哪些

电解抛光腐蚀,该电源是高稳定度的稳压稳流自动转换的高精度稳压电源。输出电压能够从零到标称值内任意选择, 而且在稳压状态时限流保护点也可任意设定。在稳流状态时,稳流输出电流在额定范围内连续可调。输出电压、输出电流指示为3位半LED数码显示。电源是由整流及滤波电路,辅助电源及基准电压电路,电压电流取样检测电路,比较放大电路,单片机控制电路以及调整电路等组成。当输出电压由于电源电压或负载电流变化引起变动时,则变动的信号经电压取样电路与基准电压相比较,其所得误差信号经比较放大后,由单片机控制系统控制调整电路使输出电压高速调整为给定值。从而达到高稳定输出的目的。四川金属抛光腐蚀经济实用低倍加热腐蚀有排液阀门,方便排放腐蚀废液。

晶间腐蚀,检测晶间腐蚀状况:能检验各种不锈钢、铝合金、黄铜和镍基合金等材料在特定温度和腐蚀试剂下的晶间腐蚀状况。通过模拟材料在实际使用中可能遇到的腐蚀环境,让材料在仪器中经受腐蚀作用,从而直观地观察和分析材料是否发生晶间腐蚀以及腐蚀的程度。判定材料性能与工艺合理性:根据晶间腐蚀的检测结果,判定材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理。如果材料在试验中出现严重的晶间腐蚀,说明材料的成分可能存在问题,或者热处理、加工工艺不当,导致材料抗晶间腐蚀能力下降,进而为材料的改进和工艺的优化提供依据。
电解抛光腐蚀缺点,特别适合于容易产生塑性变形而引起加工硬化的金属材料和硬度较低的单相合金,比如高锰钢、有色金属、易剥落硬质点的合金和奥氏体不锈钢等。尽管电解抛光有如上优点,但它仍不能完全代替机械抛光,因为电解抛光对金属材料化学成分的不均匀性、显微偏析特别敏感,所以具有偏析的金属材料基本上不能进行电解抛光。含有夹杂物的金属材料,如果夹杂物被电解液浸蚀,则夹杂物有部分或全部被抛掉,这样就无法对夹杂物进行分析。如果夹杂物不被电解液浸蚀,则夹杂物保留下来在抛光面上形成突起。对于只有两相的金属材料,如果这两个相的电化学性相差很大,则电解抛光时会产生浮雕。电解抛光腐蚀,控制抛光/腐蚀工作时间。

电解抛光腐蚀参考资料
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试验材料 |
电解液配比 |
电压 |
时间 |
备注 |
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不锈钢和合金钢 |
水:240ml,硫酸: 340ml 磷酸(85%): 650ml |
1.5~12V |
2~10分 |
0.1~0.2A/cm2 |
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不锈钢 |
水:330ml,硫酸 120ml磷酸(85%): 550ml |
1.5~12v |
1分 |
0.05A/ cm2 |
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不锈钢和合金钢 |
水:240ml,磷酸:(85%):650ml铬酸80% 硫酸 130ml |
1.5~12V |
5~60分 |
0.5A/cm2 100~130。F |
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钝铁、碳钢、合金钢、不锈钢、钛、铬 |
醋酸(冰醋酸) 940ml高氯酸(60%) 60ml |
20~60V |
1~5分 |
多用途好的电解液 |
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纯钢 |
蒸馏水 175ml磷酸(85%) 825ml |
1.0~1.6v |
10~40分 |
铜阴极 |
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黄铜、铜、铜合金(锡青铜除外) |
水 300ml磷酸(85%) 700ml |
1.5~1.8V |
5~15分 |
铜阴极 |
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α或(α+β)黄铜 |
水 600ml磷酸(85%) 400ml |
1~2v |
1~15分 |
铜或不锈钢阴极 |
晶间腐蚀,腐蚀发生后,金属和合金的表面虽然仍保持一定的金属光泽,看不出被破坏的迹象。吉林电解腐蚀品牌有哪些
晶间腐蚀试验方法,各标准对试验细节均有详细规定。
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试验方法 |
试验标准 |
试验周期 |
备注 |
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不锈钢晶间腐蚀A法 |
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4天 |
草酸法 |
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不锈钢晶间腐蚀B法 |
7天 |
硫酸-硫酸铁 120h |
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不锈钢晶间腐蚀C法 |
13-15天 |
硝酸法 5*48h |
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不锈钢晶间腐蚀D法 |
4天 |
硝酸-氢氟酸 2*2h |
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不锈钢晶间腐蚀E法 |
4天 |
硫酸-硫酸铜 16h |
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镍基合金晶间腐蚀A法 |
GB/T 15260-1994 |
7天 |
硫酸-硫酸铁 120h |
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镍基合金晶间腐蚀B法 |
3(5)天 |
铜-硫酸铜-硫酸 24h或72h |
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镍基合金晶间腐蚀C法 |
10-12天 |
盐酸法 168h |
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镍基合金晶间腐蚀D法 |
13-15天 |
硝酸法 5*48h |
电解抛光腐蚀,原理:关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特...