晶间腐蚀,操作方法:从腐蚀机台上取下烧瓶,根据不同制样将配制好的溶液取一定量加入瓶中。将样品用镊子夹住缓慢放入烧瓶,注意不能高空放入,避免损坏烧瓶。擦干烧瓶底部水或者溶液,保证烧瓶表面干燥。烧瓶放入加热台上方中间,将带有锥口的冷凝器装入烧瓶口,确保连接可靠不漏气。固定好烧瓶夹,将烧瓶和冷凝器固定好。装入温度传感器至烧瓶测口,并且调整好线的长度,使传感器探头完全浸入溶液中,比较好是溶液中部,不与烧瓶壁接触。电解抛光腐蚀,可控制样品的抛光/腐蚀面积(样品罩开孔直径15mm,20mm,30mm)。浙江低倍加热腐蚀源头厂家

低倍组织热腐蚀,缺陷检验低倍组织检验是用肉眼或放大适当的倍数来观察试样浸蚀面的宏观组织缺陷及断口形貌的一种检测方法。低倍检验常用的方法有酸蚀、断口形貌、硫印、塔形发纹等,其中酸蚀又包括热酸腐蚀法、冷酸腐蚀法及电解腐蚀法,如需仲裁是推荐使用热酸腐蚀法。低倍检验所需设备简单,操作简便迅速结果直观,易于掌握。它是鉴定制品品质的一种重要方法,也是研究工艺制造以及对制品进行品质分析时普遍采用的一种手段。低倍检验时试样的粗糙度要保证,不得有油污和加工伤痕;酸洗时的温度和时间要适宜;清洗时试样表面的腐蚀产物要刷干净,并及时吹干;酸洗后需立即评定。陕西金相电解腐蚀厂家晶间腐蚀,温度超温保护,并且对温度传感器检测。

晶间腐蚀试验方法,各标准对试验细节均有详细规定。
|
试验方法 |
试验标准 |
试验周期 |
备注 |
|
不锈钢晶间腐蚀A法 |
|
4天 |
草酸法 |
|
不锈钢晶间腐蚀B法 |
7天 |
硫酸-硫酸铁 120h |
|
|
不锈钢晶间腐蚀C法 |
13-15天 |
硝酸法 5*48h |
|
|
不锈钢晶间腐蚀D法 |
4天 |
硝酸-氢氟酸 2*2h |
|
|
不锈钢晶间腐蚀E法 |
4天 |
硫酸-硫酸铜 16h |
|
|
镍基合金晶间腐蚀A法 |
GB/T 15260-1994 |
7天 |
硫酸-硫酸铁 120h |
|
镍基合金晶间腐蚀B法 |
3(5)天 |
铜-硫酸铜-硫酸 24h或72h |
|
|
镍基合金晶间腐蚀C法 |
10-12天 |
盐酸法 168h |
|
|
镍基合金晶间腐蚀D法 |
13-15天 |
硝酸法 5*48h |
晶间腐蚀试验 (intergranular corrosion test),在特定介质条件下检验金属材料晶间腐蚀敏感性的加速金属腐蚀试验方法,目的是为了了解材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理。其原理是采用可使金属的腐蚀电位处在恒电位阳极极化曲线特定区间的各种试验溶液,然后利用金属的晶粒和晶界在该电位区间腐蚀电流的明显的差异加速显示晶间腐蚀,不锈钢、铝合金等的晶间腐蚀试验方法在许多国家均已标准化。各标准对试验细节均有详细规定。电解抛光腐蚀,选配项:RS485连接 方式任选与计算机通讯。

电解抛光腐蚀,电解浸蚀参考资料
|
试验材料 |
浸蚀液配比 |
电解参数 |
时间 |
阴极材料 |
备注 |
|
铝和铝合金 |
蒸馏水 90ml磷酸(1.71) 10ml |
1~8V |
5~10秒 |
不锈钢 |
纯铝,铝一铜,铝一?铝一?硅合金 |
|
铜 |
正磷酸/蒸馏水=2:1 |
0.8V 24。C |
30秒 |
铜 |
除锡青铜外的合金 |
|
黄铜 |
正磷酸/水=3:5 |
0.01A/cm2 16~27。C |
几秒 |
铜 |
α黄铜,β黄铜 |
|
黄铜 |
正磷酸/水=4:6 |
0.08~0.012A/cm2 24。C |
几秒 |
铜 |
α黄铜 |
|
黄铜 |
正磷酸/硫酸(浓)/蒸馏水=67:10:23 |
0.8V 24。C |
30秒 |
铜 |
含Sn≤6%的青铜 |
|
青铜 |
正磷酸/硫酸(浓)/蒸馏水=47:20:33 |
0.8V 24。C |
30秒 |
铜 |
含Sn≤6%的青铜 |
低倍组织热酸蚀腐蚀控制单元和酸蚀槽工作分开设计,增加控制单元工作寿命。浙江低倍加热腐蚀源头厂家
低倍组织热腐蚀,故障排除
|
故障问题 |
故障原因 |
|
电源开关按下不通电 |
断路器跳闸或者电源按钮开关损坏 |
|
开机温度显示326.7 |
温度传感器接触不良或者损坏,需要更换传感器。 |
|
开机温度显示0, |
系统初始化不成功,进入隐藏控件进行初始化操作。 |
|
加热温度不变化 |
加热器损坏,或者导线接触不良。 |
电解抛光腐蚀,原理:关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特...