电解腐蚀,研究表面微观结构和成分变化电解腐蚀还可以用于研究金属材料表面微观结构和成分的变化。在材料的表面处理过程中,如电镀、化学热处理等,材料表面的成分和结构会发生改变。通过电解腐蚀仪对处理后的样品进行腐蚀,并结合扫描电子显微镜等分析手段,可以观察到表面层的厚度、成分分布以及微观结构的变化情况。例如,在研究钢铁材料表面渗碳后的组织变化时,电解腐蚀可以帮助揭示渗碳层的深度、碳浓度分布以及与基体组织的结合情况等信息。电解抛光腐蚀,电压、电流有初调和微调切换功能,能准确稳定的设定电压电流值。云南试验设备腐蚀操作简单

晶间腐蚀, GB/T10852-89 铸造铝铜合金晶粒度; GB/T7998-87 铝合金晶间腐蚀测定法 ;GB/T8014-87 铝及铝合金阳极氧化阳极氧化膜厚度的定义和有关测量厚度的规定; GB/T3508-83 内燃机铸造铝活塞金相检验 ; QJ1675-89 变形铝合金过烧金相试验方法 ; JB/T3932-85 汽车、摩托车发动机铸造铝活塞金相标准 ; JB/T/NQ179-88 内燃机稀土共晶铝硅合金金相检验铝合金组织检查可有宏观组织,光学显微镜检查和电子显微镜 版主1 GB/T3246-82 铝及铝合金加工制品显微组织检验方法: GB/T3247-82 铝及铝合金加工制品低倍组织检验方法这两个标准已更新了。广东金相电解腐蚀操作简单电解抛光腐蚀,具备制样快、重复性好等优点。

电解抛光腐蚀,电解浸蚀参考资料
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试验材料 |
浸蚀液配比 |
电解参数 |
时间 |
阴极材料 |
备注 |
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铝和铝合金 |
蒸馏水 90ml磷酸(1.71) 10ml |
1~8V |
5~10秒 |
不锈钢 |
纯铝,铝一铜,铝一?铝一?硅合金 |
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铜 |
正磷酸/蒸馏水=2:1 |
0.8V 24。C |
30秒 |
铜 |
除锡青铜外的合金 |
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黄铜 |
正磷酸/水=3:5 |
0.01A/cm2 16~27。C |
几秒 |
铜 |
α黄铜,β黄铜 |
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黄铜 |
正磷酸/水=4:6 |
0.08~0.012A/cm2 24。C |
几秒 |
铜 |
α黄铜 |
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黄铜 |
正磷酸/硫酸(浓)/蒸馏水=67:10:23 |
0.8V 24。C |
30秒 |
铜 |
含Sn≤6%的青铜 |
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青铜 |
正磷酸/硫酸(浓)/蒸馏水=47:20:33 |
0.8V 24。C |
30秒 |
铜 |
含Sn≤6%的青铜 |
晶间腐蚀检验方法:晶间腐蚀后有通常有两种方法检测,一种是弯曲法,也就是对折法,就是试样进行晶间腐蚀检验后在弯曲试验机上进行弯曲180°,用放大镜观察弯曲表面,根据表面是够有裂纹来判断是否有晶间腐蚀发生,另一种是金相法,根据晶间腐蚀后试样进行磨抛+化学腐蚀,通过金相显微镜观察腐蚀深度,通过晶间腐蚀深度来判断是否发生晶间腐蚀;其实还有第三种办法,就是有经验的师傅还可以通过听声法来判断,这个主观影响较大,不建议使用;金相试样横向和纵向都是允许的,因为是判断试样腐蚀的深度,所以横向还是纵向影响不大的。低倍加热腐蚀尺寸多样性,完全可以按照客户要求定制。

晶间腐蚀试验方法,各标准对试验细节均有详细规定。
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试验方法 |
试验标准 |
试验周期 |
备注 |
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不锈钢晶间腐蚀A法 |
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4天 |
草酸法 |
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不锈钢晶间腐蚀B法 |
7天 |
硫酸-硫酸铁 120h |
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不锈钢晶间腐蚀C法 |
13-15天 |
硝酸法 5*48h |
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不锈钢晶间腐蚀D法 |
4天 |
硝酸-氢氟酸 2*2h |
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不锈钢晶间腐蚀E法 |
4天 |
硫酸-硫酸铜 16h |
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镍基合金晶间腐蚀A法 |
GB/T 15260-1994 |
7天 |
硫酸-硫酸铁 120h |
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镍基合金晶间腐蚀B法 |
3(5)天 |
铜-硫酸铜-硫酸 24h或72h |
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镍基合金晶间腐蚀C法 |
10-12天 |
盐酸法 168h |
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镍基合金晶间腐蚀D法 |
13-15天 |
硝酸法 5*48h |
低倍加热腐蚀紧凑的酸蚀槽,完全可与抽风柜配合使用,增加工作环境的舒适性。云南试验设备腐蚀操作简单
电解腐蚀仪,是一种利用电解原理对金属材料进行腐蚀处理的设备,主要用于材料显微分析、表面处理及失效分析等领域。其通过电解过程中的电流、电压、电解液成分等参数,实现对金属样品的选择性腐蚀,具有腐蚀效率高、可控性强、适用范围广等特点。通过电化学原理实现了金属腐蚀过程的精细度,在材料显微分析、失效检测及表面处理中展现出可控的优势。其不仅提升了金相制样的质量和效率,更为金属腐蚀机理研究与工程应用提供了关键技术支持,是材料科学、机械工程、电化学等领域不可或缺的实验设备。 云南试验设备腐蚀操作简单
电解抛光腐蚀,原理:关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特...