UV-NIL / SmartNIL 纳米压印系统
EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻（UV-NIL）提供完整的产品线，包括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高 效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL，EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高 效，强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度，高度均匀的图案层和**少的残留层，并具有易于调整的晶圆尺寸和产量。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期承诺，即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能，低成本和具有批量生产能力的技术。
这个系列的型号包括：EVG®610；EVG®620NT；EVG®6200NT；EVG®720；EVG®7200；EVG®7200LA；HERCULES®NIL；EVG®770；IQAligner®。 SmartNIL的主要技术是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。EVG610纳米压印售后服务
EVG ® 720自动SmartNIL
® UV纳米压印光刻系统
自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米，设有EVG's专有SmartNIL ®技术
EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业知识，能够大规模制造微米和纳米级结构。具有SmartNIL技术的EVG720系统能够在大面积上印刷小至40 nm *的纳米结构，具有****的吞吐量，非常适合批量生产下一代微流控和光子器件，例如衍射光学元件（ DOEs）。
*分辨率取决于过程和模板
如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。也可以访问官网，获得更多信息。 重庆纳米压印图像传感器应用IQ Aligner®是EVG的可用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统。
EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV纳米压印光刻系统。
用UV纳米压印能力为特色的EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统®技术，在100毫米范围内。
EVG620 NT以其灵活性和可靠性而闻名，它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。操作员友好型软件，**短的掩模和模具更换时间以及有效的全球服务支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，以及背面对准选项。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。
SmartNIL是行业**的NIL技术，可对小于40 nm *的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景，即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本，大批量替代光刻技术。
注：*分辨率取决于过程和模板
如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG提供不同的***积压印系统，大面积压印机，微透镜成型设备以及用于高 效母版制作的分步重复系统。
曲面基底上的纳米结构在许多领域都有着重要应用，例如仿生学、柔性电子学和光学器件等。传统的纳米压印技术通常采用刚性模板，可以实现亚10nm的分辨率，但是模板不能弯折，无法在曲面基底上压印制备纳米结构。而采用弹性模板的软压印技术可以在无外界提供压力下与曲面保形接触，实现结构在非平面基底上的压印复制，但是由于弹性模板的杨氏模量较低，所以压印结构的分辨率和精度都受到限制。基于目前纳米压印的发展现状，结合传统的纳米压印技术和软压印技术，中国科学院光电技术研究所团队发展了一种基于紫外光固化巯基-烯材料的亚100nm分辨率的复合软压印模板的制备方法，该模板包含刚性结构层和弹性基底层。（来自网络，侵权请联系我们进行删除，谢谢！） SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现****的吞吐量。贵州纳米压印代理价格
EVG紫外光纳米压印系统有： EVG®610，EVG®620NT，EVG®6200NT，EVG®720，EVG®7200等。EVG610纳米压印售后服务
EVG ® 6200 NT特征：
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形补偿序列
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）
敏捷处理和转换工具
台式或带防震花岗岩台的单机版
EVG ® 6200 NT附加功能：
键对准
红外对准
智能NIL ®
µ接触印刷技术数据
晶圆直径（基板尺寸）
标准光刻：75至200 mm
柔软的UV-NIL：75至200毫米
SmartNIL ®：**多至150mm
解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程：软UV-NIL＆SmartNIL
®
曝光源：汞光源或紫外线LED光源
对准：软NIL：≤±0.5 µm；SmartNIL ®：≤±3微米
自动分离：柔紫外线NIL：不支持；SmartNIL
®：支持
工作印章制作：柔软的UV-NIL：外部；SmartNIL ®：支持
EVG610纳米压印售后服务
岱美仪器技术服务（上海）有限公司创立于2002-02-07，总部位于上海市，是一家磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务 的公司。公司自2002-02-07成立以来，投身于[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]，是仪器仪表的主力军。公司坚持以技术创新为发展引擎，以客户满意为动力，目前拥有11~50人专业人员，年营业额达到100-200万元。岱美中国始终关注仪器仪表市场，以敏锐的市场洞察力以准确定位，实现与客户的成长共赢。
