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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

EVG ® 520 HE热压印系统

特色:经通用生产验证的热压印系统,可满足比较高要求

EVG520 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径比较大为200 mm的基板,并且与标准的半导体制造技术兼容。热压印系统配置有通用压花腔室以及高真空和高接触力功能,并管理适用于热压印的整个聚合物范围。结合高纵横比压印和多种脱压选项,提供了许多用于高质量图案转印和纳米分辨率的工艺。


如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 SmartNIL 非常适合对具有复杂纳米结构微流控芯片进行高精度图案化,用在下一代药 物研究和医学诊断设备生产。中国澳门纳米压印免税价格

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SmartNIL是行业**的NIL技术,可对小于40 nm *的极小特征进行图案化,并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合,可实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景,即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本,大批量替代光刻技术。

注:*分辨率取决于过程和模板


如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 中国澳门纳米压印免税价格EV Group 提供完整的UV 紫外光纳米压印光刻(UV-NIL)产品线。

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EVG ® 7200 LA特征:

专有SmartNIL ®技术,提供了****的印迹形大面积

经过验证的技术,具有出色的复制保真度和均匀性

多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本

强大且精确可控的处理

与所有市售的压印材料兼容


EVG ® 7200 LA技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):直径200毫米(比较大Gen3)(550 x 650毫米)

解析度:40 nm-10 µm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率窄带(> 400 mW /cm²)

对准:可选的光学对准:≤±15 µm

自动分离:支持的

迷你环境和气候控制:可选的


工作印章制作:支持的


SmartNIL技术简介

SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本的优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作功能。另外,主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现****的吞吐量。

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EV Group的一系列高精度热压花系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积上的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术,具有非常高的复制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高长宽比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。

NILPhotonics®能力中心-支持和开发

NILPhotonics能力中心是经过验证的创新孵化器。


欢迎各位客户来样制作,验证EVG的纳米压印设备的性能。


EVG的纳米压印设备已使纳米图案能够在面板尺寸比较大为第三代(550 mm x 650 mm)的基板上实现。陕西纳米压印应用

EVG的纳米压印光刻(NIL) - SmartNIL ® 是用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺。中国澳门纳米压印免税价格

SmartNIL是行业**的NIL技术,可对小于40 nm *的极小特征进行图案化,并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合,可实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景,即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本,大批量替代光刻技术。

*分辨率取决于过程和模板


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岱美仪器技术服务(上海)有限公司坐落在金高路2216弄35号6幢306-308室,是一家专业的磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 公司。公司目前拥有高技术人才11~50人人,以不断增强企业核心竞争力,加快企业技术创新,实现稳健生产经营。公司业务范围主要包括:[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]等。公司奉行顾客至上、质量为首、的经营宗旨,深受客户好评。公司凭着雄厚的技术力量、饱满的工作态度、扎实的工作作风、良好的职业道德,树立了优良的[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]形象,赢得了社会各界的信任和认可。

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