泉州工业烤箱报价

下面为大家介绍一下高温无氧固化烘箱。

无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、***、船舶、电子、通讯等科研及生产单位，主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化，模压固烤、IC（晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别）、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干，电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。

1、技术指标与基本配置：

1.1使用温度：RT～260℃，极限温度：300℃；

1.2炉膛腔数:2个,上下布置；

1.3炉膛材料：SUS304镜面不锈钢；加热元件：不锈钢加热器；热偶：K分度

1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪；

2、氧含量（配氧分析仪）：

2.1高温状态氧含量：≤ 10ppm +气源氧含量;低温状态氧含量：≤ 20ppm +气源氧含量

2.2控温稳定度：±1℃； 2.3温度均匀度：±2%℃（260℃平台）；

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下面为大家介绍一下石墨盘烤盘炉

一.产品介绍

真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。

二、设计特点

1、后门设计热风电机

2、降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向

3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的

三、技术指标

1、使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃；

2、绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸；

4、加热元件：石墨加热棒；

5、冷却方式：气冷 + 循环风冷降温；

6、控温稳定度：±2℃，具有PID参数自整定功能；

7、炉膛温度均匀度：±5℃（恒温1500℃）；

8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%；

9、极限真空: 10-3torr级；

10、抽气速率：空载下，30min达到10-2torr

11、升温功率：170kW；

12、升温速率：15℃/min（空载）；

13、降温速率：1450℃至80℃,240分钟

14、腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高） 四川工业烤箱合肥真萍科技-工业烤箱生产厂家。

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。

一、氮气监控系统：

1.1、2.3” LED 大屏幕数字显示湿度/温度。

1.2 、温湿度显示值0.1％-99.9％RH，温度显示值0.1℃-60.0℃。

1.3 、温湿度收集采准确传感器，长距离传输无误差。

1.4 、湿度控制：

2.4.1利用湿度设定值来控制氮气流入，到达湿度设定值即停止进气，节省氮气耗用。

2.4.2湿度在1％-60％RH 可调整。

1.5、温湿度记录功能：

2.5.1内建内存，可储存温度/湿度，收集时间1~240 分钟可自行设定。

2.5.2可利用RS232连接阜下载至计算机中读取。

2.5.3 品管记录格式设计，有助于内部记录追踪并可支持数据库档案格式。

1.6、湿度警报系统：

1.6.1可设定启动警报的湿度值及条件，内配蜂鸣器（90分贝）及闪烁警示功能。

1.6.2可另外选配积层式警示灯。

1.7、温湿度偏移校正功能：内建校正功能，确保显示准确度。

HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

  增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 真萍科技是从事热处理设备、烘烤制程设备、环境与可靠性试验设备、半导体黄光区**设备等产品专业供应商。

质量连续炉的产品特点：

1、双边配有链条传动，解决传送过程中跑偏的现象；

2、烘箱分段式加热，**电箱控制，方便操作，结构主要由输送机系统与烘干炉两大部分组成，多段**；

3、PID温度控制，炉内温度均匀；

4、输送速度变频调速，调节自如，运行平稳，产能高；

5、每段**箱体设置废气排放接口，可外接到车间外面，避免车间废气污染。

质量连续炉的术参数：

1、送风方式：送风循环系统；

2、温度范围：RT+30℃~300℃；

3、温度精度：±1℃

4、温度均匀性：±1℃

5、温控装置：富士智能PID温控仪，LED数字显示，PID自动演算及定时；

6、材质：内胆不锈钢，外箱体钢板静电喷塑；

7、传送方式：链杆、链网、自动锟轮，相当强承重；

8、复合式电加热器；

9、保护装置：漏电保护、断路保护、电机过载保护、接地保护、非正常运行情况下蜂鸣报警。 工业烤箱有哪些种类？合肥真萍科技告诉您。浙江工业烤箱厂家

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HMDS真空烤箱主要技术指标：

1. 机外壳采用冷扎钢板喷塑处理，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。

2. 箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。

3. 微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。

4. 智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。

5.HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。整个系统采用质量材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。

6 HMDS管路加热功能，使HMDS液体进入箱体的前端管路加热，使转为HMDS气态时更易。

7. 低液报警装置，采用红外液体感测器，能及时灵敏给出指令（当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能）

8. 温度与PLC联动保护功能（当PLC没有启动程序时，加温功能启动不了，相反加温功能启动时，PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能，发出警报）

9.整个箱体及HMDS气体管路采用SUS316不锈钢材料，整体使用无缝焊接（避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害）

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