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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

SmartNIL是行业**的NIL技术,可对小于40 nm *的极小特征进行图案化,并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合,可实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景,即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本,大批量替代光刻技术。

注:*分辨率取决于过程和模板


如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台,可用于进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。贵州纳米压印用于生物芯片

贵州纳米压印用于生物芯片,纳米压印

关于WaveOptics       

      WaveOptics是衍射波导的全球**设计商和制造商,衍射波导是可穿戴AR设备中的关键光学组件。

      诸如智能眼镜之类的AR可穿戴设备使用户能够观看覆盖在现实世界之上的数字图像。有两个关键元素可让您看到这些图像-微型投影仪之类的光源,以及将图像从投影仪传递到用户眼睛中的一种方式。

WaveOptics的波导技术可传输来自光源的光波并将其投射到用户的眼睛中。该技术可产生大的眼框,双目观察和高视野。眼图框(查看窗口)是从中可以看到完整图像的AR显示器的尺寸-请参见下图。WaveOptics的波导提供清晰,无失真的文本以及稳定的图像。

      WaveOptics技术旨在用于工业,企业和消费者市场的沉浸式AR体验。该公司的目标是,凭借其独特的技术和专业知识,其波导将成为所有AR可穿戴设备中使用的he心光学组件,以实现****的制造可扩展性和视觉性能,并为众多应用提供多功能性。 晶圆纳米压印研发可以用吗 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法。

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纳米压印应用三:连续性UV纳米压印

EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台,可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从比较大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合,分步重复刻印通常用于高 效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


EVG610特征:

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形误差补偿机制

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

敏捷处理和光刻工艺之间的转换

台式或带防震花岗岩台的单机版


EVG610附加功能:

键对准

红外对准

纳米压印光刻 

µ接触印刷


EVG610技术数据:

晶圆直径(基板尺寸)

标准光刻:比较大150毫米的碎片

柔软的UV-NIL:比较大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:柔软的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外线LED光源

自动分离:不支持

工作印章制作:外部


EVG ® 770是分步重复纳米压印光刻系统,使用分步重复纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作。

贵州纳米压印用于生物芯片,纳米压印

SmartNIL是行业**的NIL技术,可对小于40 nm *的极小特征进行图案化,并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合,可实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景,即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本,大批量替代光刻技术。

*分辨率取决于过程和模板


如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG ® 6200 NT是SmartNIL UV紫外光纳米压印光刻系统。贵州纳米压印用于生物芯片

EVG紫外光纳米压印系统有: EVG®610,EVG®620NT,EVG®6200NT,EVG®720,EVG®7200等。贵州纳米压印用于生物芯片

EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用

自动化压花工艺

EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印

完全由软件控制的流程执行

闭环冷却水供应选项

外部浮雕和冷却站


EVG ® 510 HE技术数据:

加热器尺寸:150毫米 ,200毫米

比较大基板尺寸:150毫米,200毫米

**小基板尺寸:单芯片,100毫米

比较大接触力:10、20、60 kN

比较高温度:标准:350°C;可选:550°C

夹盘系统/对准系统

150毫米加热器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200

200毫米加热器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT

真空:

标准:0.1毫巴


可选:0.00001 mbar


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