工业烤箱基本参数
  • 产地
  • 安徽合肥
  • 品牌
  • 合肥真萍电子科技有限公司
  • 型号
  • 齐全
  • 是否定制
工业烤箱企业商机

中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理。

一、热工系统

1.额定温度 800℃

2.较高温度 850℃

3.加热元件 陶瓷外丝加热管

4.加热功率 18kw

5.空炉保温功率 约 9kw

6.温区个数 1 个

7.控温点数 2 点

8.热偶 K 分度

9.控温稳定度 ±1℃(恒温平台)

10.炉膛温度均匀度 ±6℃(恒温 800℃,1h)

二、气氛系统

1.炉膛气氛 2 路氮气,流量计量程为 2~20L/min;每路流量可调节

2.排气系统 在炉膛顶部设置一个排气*囱,用于废气排放,废气

3.经过水封清洗后进入大气中,减少对环境污染

4.氧含量 配氧含量分析仪分析氧含量:

5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量

6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量

三、冷却系统

1.冷却结构 无

2.产品降温 随炉降温

3.安全保护

4.报警指示 超温、断偶、停水、停气等声光报警保护

5.设备安全升温速率 ≤5℃/min

四、温度控制系统

1.温度测量 采用 K 分度热偶测量

2.控制仪表 采用进口智能调节仪控制。具有 PID 参数自整定、高温

3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能

4.控制方式 固态继电器过零控制

5.超温处理 ⑴.当测量温度超过设定的安全值时,断加热,并报警。

⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时,报警。 广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。合肥大工业烤箱

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超高真空烘箱 

一、本产品广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验.

二、主要技术指标:

1、工作室温度范围:常温~ +300℃   用户使用温度260℃

2、温度波动度:    ±1.0℃(空载);

3、温度偏差:     常压温度试验:常温~200℃时±2℃  

200~300℃时±5.0℃

低气压高温综合试验:≤100℃时±2.0℃,

100℃~200℃时±5.0℃

200℃~300℃时±7.0℃

4、 升降温速率:

升温时间:①常压时:90min(常温~ +260℃)

    ②低气压0.0001pa时:180min(常温~ +260℃)

降温时间:3℃~10℃/min(260℃~ 120℃), 1℃~5℃/min(120℃~ 常温℃)

降温方式:水冷降温

5、试验箱承压方式:采用内承压方式

6、压力范围:     常压~0.0001Pa 合肥大工业烤箱工业烤箱有什么特点?合肥真萍科技告诉您。

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可靠的测控系统

1温度控制装置:进口温控器,内置PID自动整定,斜率设定功能

2温度控制方式为SSR固态继电器功率调整输出,温度采集探头为特制铠装K型热电偶

3温度监控装置:采用六通道巡回检测 有纸记录仪,可将烤箱内实时环境温度进行检测打印。

完善的控制系统,及安全防护措施

1操作控制系统,采用精密电子仪器仪表结合电力拖动系统控制,更快速,更稳定。

2防护措施:紧急停止,超温保护,断线报警,相序保护,过载保护,短路保护,漏电保护,及电磁门禁保护等

HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

  增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。 真萍科技为您提供定制各种尺寸工业烤箱。

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下面为大家介绍一下真空干燥箱。它是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。

特点:

1、长方体工作室,增加有效容积,微电脑温度控制器,精确控温。

2、双层玻璃视窗观察工作室内物体,一目了然。

3、箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。

4、工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。

5、储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。

真空程序分段控制

该型号机型,抽真空过程可提供程序化编程,根据客户要求编辑设定真空值,保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。

操作步骤

1,接通电源

2,产品送入腔体,关门

3,打开电源

4,工作温度设定好,启动加热,设备进入自动恒温状态

5,真空值和时间设定好后,启动真空泵,开始进入自动抽真空阶段

6,到达时间值后,真空泵自动关闭 欢迎致电合肥真萍科技咨询工业烤箱相关知识。合肥大工业烤箱

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下面为大家简单介绍一下六腔体无尘烤箱。

本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。

技术指标:

1 无尘等级:Class100:(符合FED-STD 209E标准:0.3um≤300个0.5≤100个)

2温度范围:+60℃~ +250℃(极限温度350℃)

3温度均匀性:±2℃(空箱测试)

4温度精确度:±1℃(空箱测试)

5设备型号规格:450*450*450;450*600*450;600*800*600;600*700*600;700*900*700;

700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;

1000*1300*1000;1000*1400*1000; 合肥大工业烤箱

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