合肥工业烤箱

下面为大家简单介绍一下温湿度振动三综合试验箱。

温湿度振动三综合试验箱广泛应用在对电工电子、家用电器、汽摩配件、化工涂料、航天、航空、石油、化工、电子、通讯、及其它相关产品零部件及材料进行高低温、恒定、交变湿热及振动冲击综合试验，并与单一因素作用相比更能真实地反映电工电子产品在运输和实际使用过程中对温湿度及振动复合环境变化的适应性，暴露产品的缺点，是新产品研制、样机试验、产品合格鉴定试验全过程必不可少的重要试验手段。

  三综合试验是指综合温度、湿度、振动三个环境应力的试验，具有极宽大的温湿度控制范围，可满足用户的各种需要采用独特的平衡调温调湿方式，可获得安全、精确的温湿度环境。同时可在三综合试验箱内将电振动应力按规定的周期施加到试品上，供用户对整机（或部件）、电器、仪器、材料等作温湿度、振动综合应力筛选试验，以便考核试品的适应性或对试品的行为作出评价。 选用定制工业烤箱有哪些好处呢？合肥真萍科技为您介绍。合肥工业烤箱

下面为大家介绍一下高温无氧固化烘箱。

无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、***、船舶、电子、通讯等科研及生产单位，主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化，模压固烤、IC（晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别）、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干，电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。

1、技术指标与基本配置：

1.1使用温度：RT～260℃，极限温度：300℃；

1.2炉膛腔数:2个,上下布置；

1.3炉膛材料：SUS304镜面不锈钢；加热元件：不锈钢加热器；热偶：K分度

1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪；

2、氧含量（配氧分析仪）：

2.1高温状态氧含量：≤ 10ppm +气源氧含量;低温状态氧含量：≤ 20ppm +气源氧含量

2.2控温稳定度：±1℃； 2.3温度均匀度：±2%℃（260℃平台）；

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下面为大家简单介绍一下六腔体无尘烤箱

产品介绍：本产品是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。

技术指标：

1 无尘等级：Class100：（符合FED-STD 209E标准：0.3um≤300个0.5≤100个）

2温度范围：+60℃~ +250℃（极限温度350℃）

3温度均匀性：±2℃（空箱测试）

4温度精确度：±1℃（空箱测试）

5设备型号规格:450*450*450；450*600*450；600*800*600；600*700*600;700*900*700;

700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;

1000*1300*1000;1000*1400*1000;

产品名称：洁净烘箱

产品介绍：本产品是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。

技术指标：

1 无尘等级：Class100：（符合FED-STD 209E标准：0.3um≤300个0.5≤100个）

2温度范围：+60℃~ +250℃（极限温度350℃）

3温度均匀性：±2℃（空箱测试）

4温度精确度：±1℃（空箱测试）

5设备型号规格:450*450*450；450*600*450；600*800*600；600*700*600;700*900*700;

700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;

1000*1300*1000;1000*1400*1000;

箱体结构：

1烘箱总体由箱体部分，电气控制柜部分，电加热部分，风道部分，尘埃物过滤部分，

N2 进气排气及风冷部分等组装而成，结构合理，功能实用。

2外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防

止微尘，内胆材料：采进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。

3保温材料：采用正厂**玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充，有效的防止了热能浪费。

4电热部分：采用进口覆套式电热器（SHEATHED HEATER）无尘无氧化电热发生器

合肥真萍科技的优势有哪些呢？听听小编为您介绍。

HMDS真空烤箱整机尺寸、真空腔体尺寸：

1. 内胆尺寸：650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;

2. 载物托架：2块

3.室温+10℃-250℃   控温范围：温度分辨率：0.1℃   温度波动度：±0.5℃

4. 真空泵：油泵或无油真空泵。真空度：133pa，

5. 加热方式：腔体下部及两侧加温。加热器为外置加热板（防止一侧加热使的HMDS液进入箱体内不能完本转成气态）

6. 可放2寸晶圆片或4寸晶圆片；6寸晶圆片；8寸晶圆片等。

7.开箱温度可以由user自行设定来降低process时间（正常工艺在50分钟-120分钟（按产品所需而定烘烤时间），为正常工作周期不含降温时间（因降温时间为 常规降温）。 为您推荐工业烤箱的专业生产厂家。合肥工业烤箱

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HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

  增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 合肥工业烤箱