纳米压印应用一：镜片成型
晶圆级光学（WLO）的制造得到EVG高达300 mm的高精度聚合物透镜成型和堆叠设备的支持。使用从晶片尺寸的主印模复制来的工作印模，通过软UV压印光刻将透镜图案转移到光学聚合物材料中。EV Group提供混合和单片微透镜成型工艺，可以轻松地适应各种材料组合，以用于工作印模和微透镜材料。EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制的优先。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。
EVG ® 520 HE是热压印系统。碳化硅纳米压印国内代理
EVG ® 6200 NT是SmartNIL
UV纳米压印光刻系统。
用UV纳米压印能力设有EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统®技术范围达150m。这些系统以其自动化的灵活性和可靠性而著称，以**小的占地面积提供了**
新的掩模对准技术。操作员友好型软件，**短的掩模和工具更换时间以及高 效的全球服务和支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。
福建台积电纳米压印EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制（制造）的***选择。
IQ Aligner®：用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统
■用于光学元件的微成型应用
■用于全场纳米压印应用
■三个**控制的Z轴，用于控制压印光刻胶的总厚度变化（TTV），并在压模和基材之间实现出色的楔形补偿
■粘合对准和紫外线粘合功能
紫外线压印_紫外线固化
印章
防紫外线基材
附加印记压印纳米结构分离印记
用紫外线可固化的光刻胶旋涂或滴涂基材。随后，将压模压入光刻胶并在仍然接触的情况下通过UV光交联。
µ-接触印刷
软印章
基板上的材料
领取物料，物料转移，删除印章
HERCULES ® NIL完全模块化和集成SmartNIL ® UV-NIL系统达300毫米
结合EVG的SmartNIL一个完全模块化平台®技术支持AR / VR，3D传感器，光子和生物技术生产应用
EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的跟 踪系统，将清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG专有的SmartNIL大面积纳米压印光刻（NIL）工艺结合在一个平台上，用于直径比较大为300 mm的晶圆。它是***个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统，可为客户提供比较大的自由度来配置他们的系统，以比较好地满足其生产需求，包括200 mm和300 mm晶圆的桥接功能。
纳米压印设备可用来进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。
SmartNIL是行业**的NIL技术，可对小于40 nm *的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景，即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本，大批量替代光刻技术。
注：*分辨率取决于过程和模板
如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 **小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度，这对于实现衍射光学元件（DOE）至关重要。福建台积电纳米压印
EVG的纳米压印设备括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高 效母版制作的分步重复系统。碳化硅纳米压印国内代理
UV纳米压印光刻
EV Group提供完整的UV纳米压印光刻（UV-NIL）产品线，包括不同的***积压印系统，大面积压印机，微透镜成型设备以及用于高 效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL，EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高 效，强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度，高度均匀的图案层和**少的残留层，并具有易于扩展的晶圆尺寸和产量。EVG的SmartNI技术达到了纳米压印的长期预期，即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能，低成本和具有批量生产能力的技术。
碳化硅纳米压印国内代理
