在EVG的NILPhotonics®解决方案支援中心，双方合作研发用于制造光学传感器的新材料，以及适用于大众化市场的晶圆级光学元件。（奥地利）与WINDACH（德国），2019年11月27日――EV集团(EVG)这一全球**的为微机电系统、纳米技术与半导体市场提供晶圆键合与光刻设备的供应商，***宣布与高科技工业粘合剂制造商DELO在晶圆级光学元件(WLO)领域开展合作。这两家公司均在光学传感器制造领域处于**地位。它们的合作将充分利用EVG的透镜注塑成型与纳米压印光刻(NIL)加工设备与DELO先进的粘合剂与抗蚀材料，在工业，汽车，消费类电子产品市场开发与应用新型光学设备，例如生物特征身份认证，面部识别。目前双方正在EVG的NILPhotonics®解决方案支援中心（位于EVG总部，奥地利Florian）以及DELO在德国Windach的总部展开合作。双方致力于改善与加快材料研发周期。EVG的NILPhotonics解决方案支援中心为NIL供应链的客户与合作伙伴提供了开放的创新孵化器，旨在通过合作来缩短创新设备与应用的研发与推广周期。该中心的基础设施包括**技术的洁净室与支持NIL制造的主要步骤的设备，例如分步重复母版，透镜模制，以及EVG的SmartNIL®技术，晶圆键合与必要的测量设备。EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台，可用于进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。研究所纳米压印价格
SmartNIL是一项关键的启用技术，可用于显示器，生物技术和光子应用中的许多新创新。例如，SmartNIL提供了****的全区域共形压印，以便满足面板基板上线栅偏振器的**重要标准。SmartNIL还非常适合对具有复杂纳米结构的微流控芯片进行高精度图案化，以支持下一代药 物研究和医学诊断设备的生产。此外，SmartNIL的***发展为制造具有比较高功能，**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度，这对于实现衍射光学元件（DOE）至关重要。
特征：
体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度
专有SmartNIL ®技术，多使用聚合物印模技术
经过生产验证的分辨率低至40 nm或更小
大面积全场压印
总拥有成本比较低
在地形上留下印记
对准能力
室温过程
开放式材料平台 研究所纳米压印自动化测量EVG的SmartNIL技术是基于紫外线曝光的全场压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术。
EVG ® 720特征：
体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度
专有SmartNIL ®技术，多使用聚合物印模技术
集成式压印，UV固化脱模和工作印模制造
盒带到盒带自动处理以及半自动研发模式
可选的顶部对准
可选的迷你环境
适用于所有市售压印材料的开放平台
从研发到生产的可扩展性
系统外壳，可实现比较好过程稳定性和可靠性技术数据
晶圆直径（基板尺寸）
75至150毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i线）> 400 mW /cm²
对准：可选的顶部对准
自动分离：支持的
迷你环境和气候控制：可选的
工作印章制作：支持的
具体说来就是，MOSFET能够有效地产生电流流动，因为标准的半导体制造技术旺旺不能精确控制住掺杂的水平（硅中掺杂以带来或正或负的电荷），以确保跨各组件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一层二氧化硅（SiO2）衬底上，然后沉积一层金属或多晶硅制成的。然而这种方法可以不精确且难以完全掌控，掺杂有时会泄到别的不需要的地方，那样就创造出了所谓的“短沟道效应”区域，并导致性能下降。一个典型MOSFET不同层级的剖面图。不过威斯康星大学麦迪逊分校已经同全美多个合作伙伴携手（包括密歇根大学、德克萨斯大学、以及加州大学伯克利分校等），开发出了能够降低掺杂剂泄露以提升半导体品质的新技术。研究人员通过电子束光刻工艺在表面上形成定制形状和塑形，从而带来更加“物理可控”的生产过程。（来自网络。EVG高达300 mm的高精度聚合物透镜成型和堆叠设备支持晶圆级光学（WLO）的制造。
通过中心提供的试验生产线基础设施，WaveOptics将超越其客户对下个季度的预期需求，并有一条可靠的途径将大批量生产工艺和设备转移至能够大规模生产波导的指定设施适用于全球前列OEM品牌。
WaveOptics与EVG的合作突显了其致力于以可实现的价格提供高性能，商用波导来帮助客户将AR显示器推向市场的承诺。利用EVG在批量生产设备和工艺技术方面的专业知识，到2019年，AR终端用户产品将以不到600美元的价格进入市场，这是当今行业中的*低价位。 EV Group的一系列高精度热压花系统是基于该公司市场**的晶圆键合技术。上海衬底纳米压印
EVG的纳米压印光刻（NIL） - SmartNIL ® 是用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺。研究所纳米压印价格
它为晶圆级光学元件开发、原型设计和制造提供了一种独特的方法，可以方便地接触***研发技术与材料。晶圆级纳米压印光刻和透镜注塑成型技术确保在如3D感应的应用中使用小尺寸的高 分辨率光学传感器供应链合作推动晶圆级光学元件应用要在下一代光学传感器的大众化市场中推广晶圆级生产，先进的粘合剂与抗蚀材料发挥着不可取代的作用。开发先进的光学材料，需要充分地研究化学、机械与光学特性，以及已被证实的大规模生产（HVM）的可扩展性。拥有在NIL图形压印和抗蚀工艺方面的材料兼容性，以及自动化模制和脱模的专业知识，才能在已验证的大规模生产中，以**小的形状因子达到晶圆级光学元件的比较好性能。材料供应商与加工设备制造商之间的密切合作，促成了工艺流程的研发与改善，确保晶圆级光学元件的高质量和制造的可靠性。EVG和DELO的合作将支持双方改善工艺流程与产品，并增强双方的专业技能，从而适应当前与未来市场的要求。双方的合作提供了成熟的材料与专业的工艺技术，并将加快新产品设计与原型制造的速度，为双方的客户保驾护航。“NILPhotonics解决方案支援中心的独特之处是：它解决了行业内部需要用更短时间研发产品的需求，同时保障比较高的保密性。研究所纳米压印价格
