在EVG的NILPhotonics®解决方案支援中心，双方合作研发用于制造光学传感器的新材料，以及适用于大众化市场的晶圆级光学元件。（奥地利）与WINDACH（德国），2019年11月27日――EV集团(EVG)这一全球**的为微机电系统、纳米技术与半导体市场提供晶圆键合与光刻设备的供应商，***宣布与高科技工业粘合剂制造商DELO在晶圆级光学元件(WLO)领域开展合作。这两家公司均在光学传感器制造领域处于**地位。它们的合作将充分利用EVG的透镜注塑成型与纳米压印光刻(NIL)加工设备与DELO先进的粘合剂与抗蚀材料，在工业，汽车，消费类电子产品市场开发与应用新型光学设备，例如生物特征身份认证，面部识别。目前双方正在EVG的NILPhotonics®解决方案支援中心（位于EVG总部，奥地利Florian）以及DELO在德国Windach的总部展开合作。双方致力于改善与加快材料研发周期。EVG的NILPhotonics解决方案支援中心为NIL供应链的客户与合作伙伴提供了开放的创新孵化器，旨在通过合作来缩短创新设备与应用的研发与推广周期。该中心的基础设施包括**技术的洁净室与支持NIL制造的主要步骤的设备，例如分步重复母版，透镜模制，以及EVG的SmartNIL®技术，晶圆键合与必要的测量设备。EV Group 提供完整的UV 紫外光纳米压印光刻（UV-NIL）产品线。UV纳米压印现场服务
EVG®770特征：微透镜用于晶片级光学器件的高效率制造主下降到纳米结构为SmartNIL®简单实施不同种类的大师可变抗蚀剂分配模式分配，压印和脱模过程中的实时图像用于压印和脱模的原位力控制可选的光学楔形误差补偿可选的自动盒带间处理EVG®770技术数据：晶圆直径（基板尺寸）：100至300毫米解析度：≤50nm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：柔软的UV-NIL曝光源：大功率LED（i线）>100mW/cm²对准：顶侧显微镜，用于实时重叠校准≤±500nm和精细校准≤±300nm手个印刷模具到模具的放置精度：≤1微米有效印记区域：长达50x50毫米自动分离：支持的前处理：涂层：液滴分配（可选）。步进重复纳米压印当地价格纳米压印设备哪个好？预墨印章可用于将材料以明显的图案转移到基材上。
HERCULES®NIL完全模块化和集成SmartNIL®UV-NIL系统达300毫米结合EVG的SmartNIL一个完全模块化平台®技术支持AR/VR，3D传感器，光子和生物技术生产应用EVG的HERCULESNIL300mm是一个完全集成的根踪系统，将清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG专有的SmartNIL大面积纳米压印光刻（NIL）工艺结合在一个平台上，用于直径蕞大为300mm的晶圆。它是弟一个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统，可为客户提供蕞大的自由度来配置他们的系统，以蕞好地满足其生产需求，包括200mm和300mm晶圆的桥接功能。
**的衍射波导设计商和制造商WaveOptics***宣布与EV Group（EVG）进行合作，EV Group是晶圆键合和纳米压印光刻设备的**供应商，以带来高性能增强现实（ AR）波导以当今业界*低的成本进入大众市场。波导是可穿戴AR的关键光学组件。
WaveOptics首席执行官David Hayes评论：“这一合作伙伴关系标志着增强现实行业的转折点，是大规模生产高质量增强现实解决方案的关键步骤，这是迄今为止尚无法实现的能力。” EVG的专业知识与我们可扩展的通用技术的结合将使到明年年底，AR终端用户产品的市场价格将低于600美元。“这项合作是释放AR可穿戴设备发展的关键；我们共同处于有利位置，可以在AR中引入大众市场创新，以比以往更低的成本开辟了可扩展性的新途径。” EVG ® 520 HE是热压印系统。
EVG公司技术开发和IP总监Markus Wimplinger补充说：“我们开发新技术和工艺以应对*复杂的挑战，帮助我们的客户成功地将其新产品创意商业化。技术，我们创建了我们的NILPhotonics能力中心。“在具有保护客户IP的强大政策的框架内，我们为客户提供了从可行性到生产阶段的产品开发和商业化支持。这正是我们***与AR领域的**者WaveOptics合作所要做的，以为*终客户提供真正可扩展的解决方案。”
EVG的NILPhotonics®能力中心框架内的协作开发工作旨在支持WaveOptics的承诺，即在工业，企业和消费者等所有主要市场领域释放AR在大众市场的应用，并遵循公司模块计划的推出。 SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现****的吞吐量。IQAligner纳米压印服务为先
SmartNIL的主要技术是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。UV纳米压印现场服务
IQAlignerUV-NIL特征：用于光学元件的微成型应用用于全场纳米压印应用三个独力控制的Z轴，可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿三个独力控制的Z轴，用于压印抗蚀剂的总厚度变化（TTV）控制利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺EVG专有的全自动浮雕功能抵抗分配站集成粘合对准和紫外线粘合功能IQAlignerUV-NIL技术数据：晶圆直径（基板尺寸）：150至300毫米解析度：≤50nm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：柔软的UV-NIL，镜片成型曝光源：汞光源对准：≤±0.5微米自动分离：支持的前处理：涂层：水坑点胶（可选）迷你环境和气候控制：可选的工作印章制作：支持的UV纳米压印现场服务
