光源均匀性：概念、重要性及评估方法光源均匀性是衡量照明场光强分布一致性（均匀程度）的关键指标，对机器视觉检测精度至关重要，尤其在进行定量测量（如尺寸、色度）或大面积检测时。不均匀照明会导致图像不同区域亮度差异：过亮区域可能饱和丢失细节，过暗区域信噪比差难以分析，这种亮度梯度会被误判为物体本身的特征变化（如厚度不均、颜色渐变），严重影响检测结果的一致性和可靠性。均匀性通常定义为：Uniformity=[1-(Max-Min)/(Max+Min)]*100%，其中Max和Min是测量区域内多个采样点的亮度值。理想值为100%，工业应用中通常要求>80%甚至>90%。评估均匀性需要使用光强计或经校准的参考相机，在设定的工作距离下，在有效照明区域内按网格（如5x5或9x9）测量多个点的亮度值，然后计算。影响均匀性的因素众多：LED个体的亮度/色温差异、排列密度、光学设计（透镜、漫射板）的质量与老化、供电稳定性、结构遮挡、距离变化等。改善均匀性的方法包括：选用高质均光板（如乳白亚克力、匀光膜）、优化LED排布（增加密度、交错排列）、采用积分球原理（穹顶光）、精确控制光源距离、定期校准维护。在系统设计阶段就必须将均匀性作为重要参数进行验证和优化。
点光源聚焦于局部精细检测。陕西光源四面条形
光源选择是一门精密科学，需多重考量：波长匹配： 材料特性决定光波选择。金属表面检测常依赖短波蓝光以增强纹理反差，而透明薄膜或生物样本则可能需红外光穿透成像。角度雕琢： 光线入射角度犹如雕塑家的刻刀。低角度照明能令微小凹凸投下长影，凸显三维缺陷；而垂直同轴光则擅长“抚平”高反光曲面（如金属或玻璃），消除镜面眩光对成像的干扰。稳定性基石： 光源亮度与色温的毫厘波动，在算法眼中不啻于巨变。工业级LED因寿命长、发热低、响应快且光输出稳定，已成为主流之选，其坚固耐用的特性更契合严苛工业环境。杭州环形低角度光源光栅线型同轴漫射板使光线更柔和均匀。
选择合适光源是一个系统性工程，需遵循科学步骤：1. 深入分析被测物：明确关键检测特征、材质、表面光学特性、颜色、形状、尺寸、运动速度。2. 理解检测任务：是定位、测量、识别、计数还是缺陷检测？精度要求如何？3. 评估环境约束：安装空间限制？环境光强弱？环境温湿度？清洁要求？有无震动？4. 确定相机与镜头参数：传感器类型（CMOS/CCD）、分辨率、感光度、是否配滤镜？镜头工作距离、视场角。5. 基于以上信息初选光源类型：突出轮廓/尺寸：背光；抑制反光/均匀照明：穹顶光、漫射环形光；突显纹理/划痕：低角度条形光；通用检查：环形光；微小区域/深孔：点光源/光纤；高速运动：频闪LED；特殊波长需求：IR/UV光源。
同轴漫射光源（DomeLight）：解决高反光表面的利器面对具有镜面或高度反光表面（如金属、抛光塑料、镀层、玻璃、光滑芯片）的物体时，传统的直接照明会产生强烈的眩光（HotSpot），淹没关键特征信息。同轴漫射光源，常被称为穹顶光（DomeLight），是解决这一挑战的有效方案。其重要设计是一个半球形的漫射内腔，内壁密布LED。光线经半球内壁的多次漫反射后，形成来自四面八方的、极其柔和且均匀的漫射光照射到被测物表面。这种照明方式的精髓在于：它将点光源或小范围光源扩展为一个大面积的、近乎理想的“面光源”，突出减小了物体表面法线方向微小变化引起的光强剧烈波动。结果是，即使是高度反光的表面，也能呈现均匀的灰阶，有效抑制眩光，同时清晰地显现出表面细微的纹理变化、划痕、凹坑、异物或字符，而不会被强烈的反射光斑掩盖。穹顶光特别适用于检查金属加工件（车削、铣削、冲压）、光滑注塑件、电子元件（芯片、连接器）、镜片、珠宝等。选择时需关注穹顶尺寸（匹配视场和工作距离）、开口大小、漫射材料均匀性以及光源亮度。其缺点是结构相对较大，可能占用较多空间。准直光源提供平行光路检测。
光源在半导体与电子制造业的关键应用半导体和电子制造业（SMT,PCB组装，芯片封装）是机器视觉应用只密集、要求只严苛的领域之一，光源在其中解决诸多关键检测难题：焊点检测（AOI-AutomatedOpticalInspection）：需要多角度照明（如环形光不同角度、穹顶光）揭示焊锡的光泽、形状、润湿角、桥接、虚焊等特征。特定波长（如蓝光）对微小缺陷敏感。元件存在/缺失、极性、错件：通用环形光、同轴光提供清晰整体图像。引线键合（WireBonding）：高倍显微下，点光源/光纤照明精细照亮微小焊点与金线，查断线、弧度、位置偏移。晶圆（Wafer）检测：表面缺陷（划痕、颗粒、沾污）：高均匀性明场（同轴光、穹顶光）或暗场照明（低角度光突显微小凸起）；图案（Pattern）对准/缺陷：高分辨率同轴光或特定波长照明；薄膜厚度测量：利用干涉或光谱反射，需要特定波长光源。PCB缺陷（断路、短路、蚀刻不良）：高分辨率背光查线路通断、线宽；表面照明查阻焊、字符、污染。BGA/CSP球栅阵列：X光更常用，但光学上可用特殊角度照明观察边缘球。小型化趋势：推动微型、高亮度、高均匀性光源（如微型环形光、同轴光）发展。光源的稳定性、均匀性、波长精确性和可控性对微电子检测至关重要。高亮度光源应对高速拍摄。盐城高亮条形光源超高均匀
内孔光源深入孔内进行照明。陕西光源四面条形
光源色（波长）选择策略光源的颜色（即发射光谱的中心波长）是机器视觉照明设计中至关重要的策略性选择，直接影响目标特征与背景的对比度。选择依据的重点是被测物颜色及其光学特性：互补色原理：照射的颜色与物体颜色互为补色时，物体吸收多光而显得暗，背景（若反射该光）则亮，从而大化对比度。例如，用红光照射绿色物体，绿色物体会吸收红光（显得暗），而白色背景反射红光（显得亮）；反之，用绿光照射红色物体亦然。同色增强：有时用与物体颜色相近的光照射，能增强该颜色的饱和度（如蓝光照射蓝色标签）。特定波长响应：某些材料对特定波长有独特吸收/反射/荧光特性（如红外穿透塑料、紫外激发荧光）。滤镜协同：结合相机前的带通滤镜，只允许特定波长的光进入相机，可有效抑制环境光干扰并增强目标光信号。常用单色光源波长包括：红光（630-660nm）：通用性好，穿透雾霾略强，对金属划痕敏感；绿光（520-530nm）：人眼敏感，相机量子效率高，常用于高分辨率检测；蓝光：对细微纹理、划痕敏感（短波长衍射效应弱），常用于精密检测；白光：提供全光谱信息，适用于颜色检测、多特征综合判断。选择时需考虑相机传感器的光谱响应曲线，确保所选波长能被相机有效捕捉。陕西光源四面条形
