超纯水基本参数
  • 品牌
  • 威立特
  • 型号
  • H2O
  • CAS
  • 7732-18-5
  • 保存条件
  • 避光、常温
  • 产品等级
  • 一级
  • 密度
  • 1000000
  • 厂家
  • 苏州威立特环保科技有限公司
  • 产品规格
  • 25KG/桶
  • 执行标准
  • 国标
  • 有效物质含量
  • 1
  • 产地
  • 苏州
超纯水企业商机

配置碱性清洗液(如氢氧化钠溶液)并打入膜组件,按照酸性清洗的类似操作流程进行循环清洗 30 - 60 分钟,循环温度控制在 30℃ - 40℃。浸泡 15 - 30 分钟后排放碱性清洗液,排放和收集方式同酸性清洗液处理。再次用清水冲洗膜组件,冲洗时间约 30 - 45 分钟,确保清洗液被彻底冲洗干净,监测冲洗水的 pH 值和电导率,pH 值接近中性且电导率较低时冲洗完成。氧化剂清洗,当膜污染情况较为严重,经酸性和碱性清洗后仍未达到理想效果,尤其是怀疑有生物膜或顽固有机物污染时,进行氧化剂清洗。选择合适的氧化剂清洗剂(如过氧化氢或次氯酸钠溶液),将其打入膜组件进行循环清洗,循环时间 20 - 40 分钟,循环过程中要注意控制氧化剂浓度,避免对膜造成过度氧化损伤。清洗后排放氧化剂清洗液,用清水冲洗膜组件,冲洗时间不少于 40 分钟,同时监测冲洗水的相关指标,确保氧化剂被完全清洗干净。超纯水在医疗器械清洗与消毒中有严格要求。教学用超纯水发展

超纯水

超纯水的物理性质与普通水有着微妙的差异。由于其几乎不含矿物质,其导电性极低,电阻率通常高达 18.2 兆欧・厘米以上,这一特性使得它在一些特殊的电气设备冷却系统中被广泛应用。在高能量密度的电子设备,如大型计算机服务器和超导磁体的冷却中,超纯水能够高效地带走热量,同时不会因导电而引发短路等电气故障。而且,超纯水的表面张力相对较大,这使得它在某些微流控芯片和纳米材料制备过程中具有独特的应用价值。例如在微流控通道中,超纯水的高表面张力有助于控制液体的流动行为,实现精确的样品处理和分析,为微纳尺度的科学研究和技术开发提供了有力的工具。安徽新型超纯水大概费用超纯水的生产车间有严格环境控制,减少尘埃影响。

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化学需氧量(COD)的检测方法,原理:在强酸性条件下,以重铬酸钾为氧化剂,硫酸银为催化剂,硫酸汞为氯离子掩蔽剂,加热消解水样,使水样中的有机物被氧化,剩余的重铬酸钾以试亚铁灵为指示剂,用硫酸亚铁铵溶液滴定,根据硫酸亚铁铵的消耗量计算出 COD 值。适用范围:适用于污染较严重的水和工业废水,可测定大于 50mg/L 的 COD 值,用 0.025mol/L 浓度的重铬酸钾溶液可测定 5-50mg/L 的 COD 值,但准确度较差。优点:氧化率高,再现性好,准确可靠,是国际社会普遍公认的经典标准方法。缺点:回流装置占空间大,水、电消耗大,试剂用量大,操作不便,难以大批量快速测定。

1. 反渗透膜的孔径极小,一般在 0.1 - 1 纳米之间,能够有效截留大部分有机污染物。无论是大分子有机物,如蛋白质、多糖、微生物产生的胞外聚合物等,还是小分子有机物,如农药、染料、石油类有机物、有机卤化物等,都能被大量去除。例如,在工业废水处理用于回用制备超纯水时,对于废水中的复杂有机污染物,反渗透法可以去除其中 90% 以上的有机成分,提高了水的纯度。反渗透过程不仅对有机污染物有很好的去除效果,还能去除水中的溶解性固体(如盐类)、胶体、细菌、病毒等杂质。这是因为半透膜的特性使得只有水分子能够通过,而几乎所有其他杂质都被截留。在超纯水制备过程中,这一特性可以简化处理流程,减少后续处理步骤的负担。例如,在电子工业的超纯水制备中,反渗透可以一次性去除水中的重金属离子、微生物和有机杂质,为后续的离子交换和超滤等步骤提供较好的进水水质。高效液相色谱分析对超纯水的质量要求极为严格。

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生命科学研究领域 在细胞培养实验中,超纯水是配制培养基的关键成分。细胞对生长环境的要求非常苛刻,超纯水的纯度可以保证培养基中不含有对细胞有毒害作用的物质。例如,水中的重金属离子可能会干扰细胞的代谢过程,影响细胞的生长和增殖。超纯水还用于清洗细胞培养器具,确保没有杂质残留,为细胞提供一个良好的生长环境。 在基因测序和基因编辑实验中,超纯水的作用同样不可忽视。它作为试剂的溶剂和反应体系的基础,其高纯度有助于确保测序的准确性和基因编辑的准确性。例如,在聚合酶链式反应(PCR)中,超纯水用于配制反应缓冲液和稀释 DNA 模板。如果水中含有杂质,可能会抑制聚合酶的活性,导致基因扩增失败或产生错误的结果。毛细管电泳分析用水为超纯水以保证分离效果。安徽新型超纯水大概费用

超纯水在考古文物修复中用于特殊材料处理。教学用超纯水发展

电子行业 在半导体制造领域,超纯水的应用极为关键。芯片制造过程中,从硅片的清洗、光刻、蚀刻到离子注入等各个工序,都需要超纯水。例如,在硅片清洗过程中,超纯水可以有效去除硅片表面的颗粒、有机物和金属离子等杂质。因为芯片的线宽非常小,微小的杂质颗粒都可能导致芯片短路或出现性能问题。在光刻工艺中,超纯水用于冲洗光刻胶,确保光刻图案的准确性。其高纯度能够避免水中杂质对光刻胶的溶解特性产生影响,从而保障芯片的高精度制造。 对于电子元器件的生产,如电路板的制作,超纯水也不可或缺。它用于清洗电路板,去除焊接过程中产生的助焊剂残留物、金属屑等杂质。这些杂质如果残留在电路板上,可能会引起电路的腐蚀或短路,影响电子产品的可靠性和使用寿命。教学用超纯水发展

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