超纯水基本参数
  • 品牌
  • 威立特
  • 型号
  • H2O
  • CAS
  • 7732-18-5
  • 保存条件
  • 避光、常温
  • 产品等级
  • 一级
  • 密度
  • 1000000
  • 厂家
  • 苏州威立特环保科技有限公司
  • 产品规格
  • 25KG/桶
  • 执行标准
  • 国标
  • 有效物质含量
  • 1
  • 产地
  • 苏州
超纯水企业商机

配置碱性清洗液(如氢氧化钠溶液)并打入膜组件,按照酸性清洗的类似操作流程进行循环清洗 30 - 60 分钟,循环温度控制在 30℃ - 40℃。浸泡 15 - 30 分钟后排放碱性清洗液,排放和收集方式同酸性清洗液处理。再次用清水冲洗膜组件,冲洗时间约 30 - 45 分钟,确保清洗液被彻底冲洗干净,监测冲洗水的 pH 值和电导率,pH 值接近中性且电导率较低时冲洗完成。氧化剂清洗,当膜污染情况较为严重,经酸性和碱性清洗后仍未达到理想效果,尤其是怀疑有生物膜或顽固有机物污染时,进行氧化剂清洗。选择合适的氧化剂清洗剂(如过氧化氢或次氯酸钠溶液),将其打入膜组件进行循环清洗,循环时间 20 - 40 分钟,循环过程中要注意控制氧化剂浓度,避免对膜造成过度氧化损伤。清洗后排放氧化剂清洗液,用清水冲洗膜组件,冲洗时间不少于 40 分钟,同时监测冲洗水的相关指标,确保氧化剂被完全清洗干净。超纯水在文具制造中用于特殊墨水与涂料的配制。黑龙江超纯水互惠互利

超纯水

超纯水是一种纯度极高的水,其电阻率高达 18.2 MΩ・cm 以上,几乎去除了水中所有的杂质,包括溶解性固体、有机物、微生物、胶体以及气体等。它的制备工艺极为复杂且精密,往往综合运用了反渗透、离子交换、超滤、紫外线杀菌、超滤膜过滤等多种先进技术手段。 在半导体制造领域,超纯水是芯片生产过程中的关键要素。芯片的微小电路结构对杂质极为敏感,哪怕是极其微量的离子或颗粒杂质都可能导致芯片短路、性能下降甚至报废。超纯水用于芯片的清洗、光刻、蚀刻等各个工序,确保了芯片制造的高精度和高质量。广东什么是超纯水发展超纯水在材料科学研究中用于制备特殊材料的溶液。

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原理:反渗透是在压力驱动下,利用半透膜的特性,使水从高浓度一侧(原水侧)向低浓度一侧(透过液侧)渗透。半透膜的孔径非常小,一般在 0.1 - 1 纳米之间,能够有效截留水中的大部分有机污染物,包括大分子有机物(如蛋白质、多糖等)和许多小分子有机物(如农药、染料等)。只有水分子和极少数小分子能够通过半透膜。应用:在超纯水系统中,反渗透通常是关键的处理步骤。它可以去除水中 95% - 99% 的溶解性固体和几乎全部的微生物,同时对有机污染物也有很好的去除效果。例如,在电子工业中用于芯片制造的超纯水制备,反渗透可以有效去除水中可能影响芯片性能的有机杂质。不过,反渗透膜可能会受到有机污染物的污染,导致膜通量下降,需要定期进行化学清洗来恢复其性能。

各类科学实验:在化学实验、生物实验、物理实验等实验室中,超纯水常被用作反应物、溶剂或冲洗用水等。例如,在细胞培养实验中,需要使用超纯水来配制培养基,以避免水中的有机污染物和杂质对细胞生长产生影响;在化学分析实验中,超纯水可作为空白对照或用于配制标准溶液,确保实验数据的准确性和可靠性机械过滤:通常采用石英砂过滤器、活性炭过滤器等,去除原水中的悬浮物、泥沙、铁锈、胶体等大颗粒杂质和部分有机物,保护后续的反渗透膜。比如,石英砂过滤器可有效截留 5μm 以上的颗粒物质245.软化处理:若原水硬度较高,还需进行软化处理,一般使用软化树脂过滤器,去除水中的钙、镁离子,防止其在反渗透膜表面结垢,影响膜的性能和寿命4.精密过滤:在进入反渗透系统前,经过保安过滤器进行精密过滤,进一步去除水中残留的微小颗粒杂质,确保进水的 SDI 值满足反渗透膜的要求,通常要求 SDI 值小于 5,保护反渗透膜不受堵塞23.活性炭吸附在超纯水制备中去除部分有机与余氯。

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超纯水,作为一种非常纯净的水,在众多高科技领域发挥着不可或缺的作用。它几乎不含任何杂质,包括矿物质、微生物、有机物和溶解性气体等。其制备过程极为复杂且精密,通常需要经过多步的预处理、反渗透、离子交换和超滤等技术。在电子芯片制造中,超纯水用于清洗硅片,哪怕是极其微小的杂质颗粒都可能导致芯片短路或性能故障,所以超纯水的高纯度保障了芯片生产的良率和可靠性。这种非常纯净的特性也使其在制药行业意义非凡,用于药品的生产与配制,避免杂质对药物活性成分产生影响,确保药品的质量和安全性达到高标准。超纯水在汽车制造中的涂装前处理有重要应用。北京本地超纯水现货

超纯水的生产需对原水进行预脱氯处理。黑龙江超纯水互惠互利

电子行业 在半导体制造领域,超纯水的应用极为关键。芯片制造过程中,从硅片的清洗、光刻、蚀刻到离子注入等各个工序,都需要超纯水。例如,在硅片清洗过程中,超纯水可以有效去除硅片表面的颗粒、有机物和金属离子等杂质。因为芯片的线宽非常小,微小的杂质颗粒都可能导致芯片短路或出现性能问题。在光刻工艺中,超纯水用于冲洗光刻胶,确保光刻图案的准确性。其高纯度能够避免水中杂质对光刻胶的溶解特性产生影响,从而保障芯片的高精度制造。 对于电子元器件的生产,如电路板的制作,超纯水也不可或缺。它用于清洗电路板,去除焊接过程中产生的助焊剂残留物、金属屑等杂质。这些杂质如果残留在电路板上,可能会引起电路的腐蚀或短路,影响电子产品的可靠性和使用寿命。黑龙江超纯水互惠互利

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