半导体器件基本参数
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半导体器件企业商机

图表3-31是硅光电池的结构和电路符号图。从图中可见硅光电池就是一个大面积PN结。光照可以使薄薄的P型区产生大量的光生载流子。这些光生电子和空穴,会向PN结方向扩散。扩散过程中,一部分电子和空穴复合消失,大部分扩散到PN结边缘。在结电场的作用下,大部分光生空穴被电场推回P型区而不能穿越PN结;大部分光生电阻却受到结电场的加速作用穿越PN结,到达N型区。随着光生电子在N型区的积累及光生空穴在P型号区的积累,会在在PN对的两侧产生一个稳定的电位差,这就是光生电动势。当光电池两端接有负载时,将有电流流过负载,起着电池的作用。图像传感器:CMOS传感器(手机摄像头)、电荷耦合器件(CCD)。滨湖区附近半导体器件供应商

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1·发光二极管发光二极管的管芯也是一个PN结,并具有单向导电性。PN结加上正向电压时,电子由N区渡越(扩散)到空间电荷区与空穴复合而释放出能量。这些能量大部分以发光的形式出现,因此,可以直接将电能转换成光能。发光二极管的发光颜色(波长),困半导体材料及掺杂成分不同而不同。常用的有黄、绿、红等颜色的发光二极管。发光二极管工作电压很低(1 5-3伏),工作电流很小(10-30毫安),耗电极省。可作灯光信号显示、快速光源,也呆同时起整流和发光两种作用。锡山区推广半导体器件服务费特殊二极管:微波二极管、变容二极管、雪崩二极管、发光二极管(LED)、光电二极管(太阳能电池)。

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半导体光电子器件的发展始于二极管,二极管作为半导体技术发展之路的开山鼻祖,其所包含的半导体势垒结构是所有半导体器件、集成电路必不可少的基础元素,在二极管技术的根基上,不仅发展出了集成电路,也被广泛应用于光电领域 [4]。1907年,在马可尼实验室工作的亨利·朗德(Henry Round)观察到了碳化硅二极管的发光现象。1920年代,苏联科学家奥列格·V·洛谢夫(Oleg V.Losev)发现通过电流的整流二极管会发光,并记录了二极管发光的电流阈值和发光光谱 [4]。

3·光电三极管光电三极管的结构与普通三极度管相同,但基区面积较大,便函于接收更多的入射光线。入射光在基区激发出电子----空穴时,形成基极电流,而集电极电流是基极电流β倍,因此光照便能有效地控制集电极电流。光电三极管比光电二极管有更高的灵敏度。图表-30示出了光电三极管的结构和符号。半导体PN结在受到光照射时能产生电动势的效应,叫光伏打效应。硅光电池就是利用光伏打效应将光能直接换成电能的半导体器件。太阳能电池是光伏打器件的重要**。其发展史上一个关键里程碑是1954年,皮尔森和富勒利用磷和硼的扩散技术制成了大面积的硅p-n结太阳能电池,光电转换效率达6%以上,其工作原理正是光生伏***应。 [3]半导体器件的性能和特性受到材料、结构和制造工艺的影响。

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***部分:用字母表示器件使用的材料。A-器件使用材料的禁带宽度Eg=0.6~1.0eV 如锗、B-器件使用材料的Eg=1.0~1.3eV 如硅、C-器件使用材料的Eg>1.3eV 如砷化镓、D-器件使用材料的Eg<0.6eV 如锑化铟、E-器件使用复合材料及光电池使用的材料第二部分:用字母表示器件的类型及主要特征。A-检波开关混频二极管、B-变容二极管、C-低频小功率三极管、D-低频大功率三极管、E-隧道二极管、F-高频小功率三极管、G-复合器件及其他器件、H-磁敏二极管、K-开放磁路中的霍尔元件、L-高频大功率三极管、M-封闭磁路中的霍尔元件、P-光敏器件、Q-发光器件、R-小功率晶闸管、S-小功率开关管、T-大功率晶闸管、U-大功率开关管、X-倍增二极管、Y-整流二极管、Z-稳压二极管。半导体材料的导电性可以通过掺杂(添加少量其他元素)来调节,从而改变其电导率。滨湖区推荐半导体器件厂家现货

发光器件:LED、激光二极管(LD)。滨湖区附近半导体器件供应商

2·光电二极管光电二极管的管芯也是一个PN结,只是结面积比普通二极管大,便于接收光线。但和普通二极管不同,光电二极管是在反向电压下工作的。它的暗电流很小,只有0 1微安左右。在光线照射下产生的电子----空穴对叫光生载流子,它们参加导电会增大反向饱和电流。光生载流子的数量与光强度有关,因此,反向饱和电流会随着光强的变化而变化,从而可以把光信号的变化转为电流及电压的变化。光电二极管的结构及符号如图表-29所示。光电二极管主要用于近红外探测器及光电转换的自动控制仪器中,还可以作为光导纤维通信的接收器件。滨湖区附近半导体器件供应商

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