以尽量减少由于线性不好而引起的不确定度，特别对线性范围比较窄的测量法，此点龙为重要。当含量不能做到充分接近时，**好在被测样品两侧各选择一个标准气体，分别测定后取平均值作为测量结果。4、不确定度标准气体一旦选择，其不确定度对被测组分的结果而言就成为系统误差。因此，从不确定度合成的角度考虎虑，不确定度越小越好，如果其数值比预期分析结果小三倍，则可忽略不计。标准气体分析方法编辑分析标准气体的方法很多，但常用的主要有：气相色谱法、化学发光法、非色散红外法以及用于微量水和微量氧分析的其他方法。气相色谱气相色谱法适用于氢气、氧气、氮气、氩气、氦气、一氧化碳、二氧化碳等无机气体，甲烷、乙烷、丙烯、及C3以上的绝大部分有机气体的分析。通过直接法、浓缩法、反应法等样品处理技术的应用，分析的含量范围为10-9~。所以，气相色谱法也是分析标准气体中应用**多、**普遍的方法。化学发光法化学发光法是利用某些化学反应所产生的发光现象对组分进行分析的方法，具有灵敏度高，选择性好，使用简单方便、快速等特点。因些，适用于硫化物、氮氧化物、氨等标准气体的分析。工业气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。标准气体生产厂家
是根据所需气体的含量，按体积计算。控制组分气体和释稀释气体的体积，经混合而得到的标准气体。2、所需设备注射器，定体积容器。标准气体混匀技术编辑均匀性是考察标准气体性能的一个重要指标。标准气体的特性应该是均匀的即在规定的范围内其量值保证不变。不论采用哪种方法制备的标准气体，都需要进行混匀处理。标准气体的混匀方法有：热处理法、钢瓶滚动法、特殊充填法、自然扩散法、其他混匀方法等，几种混匀操作方法如下：[1]热处理法一般将制备好的标准气体的容器置于40℃以下的温水浴中加热，使气体组分较快的混合均匀。钢瓶旋转滚动法将钢瓶水平放在混匀半置的滚动轴上，使它绕轴心旋转民。该法混匀所需时间短，操作简单。特殊充填法在充填某些气体时，可将钢瓶倒立并保持45℃的倾斜，从下端充气，促使气体绝热膨胀，产生放热效应，气体可以在充填的同时混合均匀。自然扩散法将充入标准气体的钢瓶倒立在合适的位置，静止不动，靠气体本身的自然扩散来达到混合均匀，但此法所需时间较长。其他混匀方法采用静态混合容器或使用特殊构造的容器阀门，可以在很短时间内使标准气体混合均匀。不管采用哪种方法进行混匀处理，必须用另一种高精度的分析方法进行检验。福建气体直销重庆气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。
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所以渗透率也随温度改变而改变。因此,在测定渗透率时,必须将干燥瓶放入恒温水浴中,温度控制精度要达到±011℃。在恒温放置过程中,每隔一定的时间(至少12小时)用精密天平快速称量渗透管一次(必须在10分钟内称完),相邻两次的重量差就是渗透管在该时间段的渗透量。测出渗透量后,就可用下式求出该渗透管的渗透率。740)">式中:G:渗透率(Lgömin);△G:相邻两次称量的重量差(mg);△S:相邻两次称量的时间间隔(min);实际测定时,记录一系列称量和时间数据,用上式计算渗透率并求其平均值。或以称量数据为纵坐标,时间为横坐标,绘制渗透率的特性曲线,所得直线的斜率即为渗透率。(2)渗透管动态配气装置用已知渗透率的渗透管配制标准气体的装置如图6所示。740)">将渗透管放在气体发生瓶中,再将气体发生瓶放入恒温水浴中,恒温水浴的温度要与测定渗透率时的温度相同(一般为25±1℃),这样就可不作温度校正。稀释气(压缩空气)经**、活性炭和氢氧化钠净化器2除去水分和杂质后,再经流量控制阀和流量计3进入气体发生瓶7(即混合器)中,将渗透出来的气体分子带出,就得到标准气体。标准气体的浓度可由下式求出(在25℃和一个大气压下)。740)">式中:z:所配标准气体的浓度(ppm)。重庆二氧化碳标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。
配气准度要求以配气允差和分析允差来表征;比较通用的有SE2MI配气允差标准,但各公司均有企业标准。组分的**低浓度为10-6级,组分数可多达20余种。配制方法可采用重量法,然后用色谱分析校核,也可按标准传递程序进行传递。3、电子气体(Electronicgases)：半导体工业用的气体统称电子气体。按其门类可分为纯气、高纯4_6m+p-_4气和半导体特殊材料气体三大类。特殊材料气体主要用于外延、掺杂和蚀刻工艺；高纯气体主要用作稀释气和运载气。电子气体是特种气体的一个重要分支。电子气体按纯度等级和使用场合，可分为电子级、LSI(大规模集成电路)级、VLSI(超大规模集成电路)级和ULSI(特大规模集成电路)级。4.外延气体(Cpita***algases)：在仔细选择的衬底上采用化学气相淀积(CVD)的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4种,即硅烷、二氯二氢硅、三氯氢硅和四氯化硅,主要用于外延硅淀积,多晶硅淀积,淀积氧化硅膜,淀积氮化硅膜,太阳电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。5.蚀刻气体(Etchinggases)：蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉。重庆医用气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。标准气体生产厂家
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G:渗透管的渗透率(Lg/min);M:液体的摩尔质量(g/mol);Q:稀释气体的流量(L/min);VM:配气状态下气体的摩尔体积(L/mol)。标准气体配制方法编辑包括气体的发生,一定体积或一定质量物质的量取及用空气稀释至一定浓度等步骤。气体发生由于各种物质的物理、化学性质不同,它们的存在形式各异,因此,获得标准气体的方法也不相同。对于以液体状态存在的挥发性较大的物质,可利用液体的挥发作用来制取。此外,也可以利用化学反应来制取。用后一种方法所产生的气体常常含有杂质,需先用适当的方法除去杂质后,贮存到适当的容器中,测定浓度后备用。表1列出了一些常见气体的发生方法。740)"height=268>贮存无论用什么方法产生的标准气体,通常都要收集到适当的容器中保存。生产厂家一般都是将其压入钢瓶或玻璃钢瓶中,并用清洁气体稀释成一定浓度,作为商品出售。在生产车间或实验室中可用玻璃容器、塑料袋或注射器临时保存。但要注意,被贮存的气体不能与容器发生化学作用,也不能通过器壁或缝隙漏掉。空气稀释用上述方法所获得的标准气体,浓度一般都比较大,不宜直接作为标准气体使用,而是把它作为原料气。标准气体生产厂家
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