晶间腐蚀,检测晶间腐蚀状况:能检验各种不锈钢、铝合金、黄铜和镍基合金等材料在特定温度和腐蚀试剂下的晶间腐蚀状况。通过模拟材料在实际使用中可能遇到的腐蚀环境,让材料在仪器中经受腐蚀作用,从而直观地观察和分析材料是否发生晶间腐蚀以及腐蚀的程度。判定材料性能与工艺合理性:根据晶间腐蚀的检测结果,判定材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理。如果材料在试验中出现严重的晶间腐蚀,说明材料的成分可能存在问题,或者热处理、加工工艺不当,导致材料抗晶间腐蚀能力下降,进而为材料的改进和工艺的优化提供依据。电解抛光腐蚀,电压电流调节、显示精度小数点后两位。云南金属抛光腐蚀性价比高

晶间腐蚀,腐蚀发生:在腐蚀介质作用下,贫铬区就会失去耐腐蚀能力,而产生晶间腐蚀,因为晶界钝态受到破坏,在晶界上析出的碳化铬周围贫化铬区成为阳极区,而碳化铬和晶粒处于钝态成为阴极区,在腐蚀介质中晶界与晶粒构成活化 - 钝化微电池,加速了晶界区的腐蚀。晶间 σ 相析出理论:对于低碳的高铬、高钼不锈钢,在℃内热处理时,会生成含铬的相金属间化合物。在过钝化电位下,相发生严重的腐蚀,其阳极溶解电流急剧上升,可能是相自身的选择性溶解所致3。相金属间化合物一般只能在很强的氧化性介质中才能发生溶解,所以检测这种类型的腐蚀必须使用氧化性很强的的沸腾硝酸,使不锈钢的腐蚀电位达到过钝化区。陕西金属抛光腐蚀厂家电解抛光腐蚀,可控制样品的抛光/腐蚀面积(样品罩开孔直径15mm,20mm,30mm)。

电解抛光腐蚀参考资料
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试验材料 |
电解液配比 |
电压 |
时间 |
备注 |
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不锈钢 1Cr—18Ni9Ti |
酒精(95%) 940ml高氯酸(65%) 60ml |
30~40V |
15~60秒 |
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不锈钢、合金钢、高速钢等 |
酒精(95%)700ml;高氯酸(30%)200ml;甘油(丙三醇)100ml |
15~50V |
15~60秒 |
通用电解液之一 |
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钢、铸铁、铝、铝合金等 |
酒精(95%)700ml;高氯酸(30%)200ml; 丁氧基乙醇 100ml |
30~65V |
15~60秒 |
比较好的通用配方之一 |
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不锈钢、碳钢铁、合金钢等 |
醋酸(冰醋酸) 900ml高氯酸(60%) 100ml |
12~70V |
0.5~2分 |
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铀、锆、钛、 铝合金钢、碳钢 |
醋酸(冰醋酸) 800ml高氯酸(60%) 200ml |
40~100V |
1~15分 |
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不锈钢 |
水 250ml 硫酸 750ml |
1.5~6V |
1~2分 |
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不锈钢 |
磷酸(85%) 600ml硫酸 400ml |
1.5~12V |
10~60秒 |
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不锈钢 |
水 80ml 硫酸 720ml 甘油 200ml |
1.5~6V |
0.5~5分 |
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电解抛光腐蚀, 贵金属及其合金电解浸蚀剂和电解抛光液表
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浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
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王水 |
交流电:6伏 另一电板:石墨 |
铂及其合金、铑及其合金的电解浸蚀。 |
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稀王水: 盐酸 25亳升 硝酸 8.3亳升 水 65.7亳升 |
交流电:6~10伏 电流密度:1.5~2.0安/厘米2 时间:8~10分钟 另一电极:纯铂 |
铂、铱的电解浸蚀。 |
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盐酸 20亳升 氯化钠 25无 水 65亳升 |
交流电:6伏 另一电极:石墨 时间:1分钟 |
铂、铂钉、铂铱合金的电解浸蚀。 |
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盐酸 20亳升 甘油 5亳升 水 70亳升 |
交流电:6伏 另一电极:石墨 时间:30分钟 |
铱及铱铑合金的电解浸蚀。 |

电解抛光腐蚀,显示钢的显微组织的电解浸蚀剂及电解抛光液表
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浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
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冰醋酸铬酸溶液: 冰醋酸 775亳升 铬酸酐 75克 铬酸钠 150克 |
10分钟以上,电压40~45伏,搅动溶液使其保持在30。C以下。作用较慢,但较安全。 |
抛光铜和铁效果很好。 |
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醋酸及冰醋酸溶液: 醋酐 765亳升 过氯酸(65%)185亳升 水 50亳升 用电解法溶入铝0.5% |
使用电流密度4~6安/厘米),使用电压50伏,浸蚀时间4~5分钟。溶液配制后放置24小时后方可使用,使用温度应低于30。C,以免引起炸裂。 |
适用于抛光钢和铁以不含8%的 |
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晶间腐蚀操作主意事项,冷水机安装与使用安装:将冷水机安装在通风平稳的地方,注意散热和进风口不要靠墙。连接进水管与回水管(根据管子上的标识),用喉箍拧紧,避免时间长了脱落。往水箱里面加水,水一定要干净,不然容易堵塞或者冷水机故障,加水的时候注意观察液位标识,冷水机水箱大约9L,只要在工作状态(保证回路正常)的时候保证在绿色液位段就好。运行温度:在使用过程中,只要确保冷凝管不结露和冷水机温度不会高于设定的太多就没有问题(高低±2度),一定不能结露,结露时会有水滴流向加热器,设置温度太低时溶液很难沸腾云南金属抛光腐蚀性价比高
电解抛光腐蚀,原理:关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特...