半导体失效分析

§Nrecon重建软件，包含GPU加速软件使用修正的Feldkamp多层体积（锥束）重建算法。单层或选定/全体积在一个扫描后也能重建。全横截面尺寸（全图模式），部分重建模式，大于视场的局部细节重建。自动位移校正，环状物校正，可调平滑，射束硬化校正，探测器死像素校准，热漂移补偿，长样品部分扫描的自动重建、绘图尺，自动和手动选择的灰度视窗等等。输出格式：16bitTIFF,8bitJPEG,8bitBMP,8bitPNG,textformat。GPU加速版可提高速度5-20倍，取决于所处理图像的大小。通过先进的相衬增强技术，SkyScan1272对样品的细节检测能力（分辨率）高达450纳米。半导体失效分析

PorositydeterminationinSandstoneScannedat1µmvoxelsize2mmmicroplug80kV,3h30scantimePoresandcracksCoatingthicknessDistributionofactiveingredientsThicknesshomogeneityofthecoatingisimportantforefficientdrugreleaseNon-destructiveimagingallowsforamulti-scaleapproachEntirepillsinglepelletsPush-buttonoperationforQCofsyringes10µmvoxelsizeFast,easytousepush-buttonCTwithSKYSCAN1275Packaging–sealqualityEvaluationofmanufacturingprocessofthesecomponentsReferenceandproducedpartscanbescannedandcompared布鲁克显微CT推荐咨询汽车和电子：检测金属部件瑕疵、对连接进行无损评估、自动分析制造组件、在线运行系统。

SKYSCAN2214是布鲁克推出的新纳米断层扫描系统，是显微CT技术领域的先行者，在为用户带来了终级分辨率的同时，提供非常好的用户体验。SKYSCAN2214的每个组件都融入的新的技术，使其成为当今市场上性能很强、适用性很广的系统。•多用途系统，样品尺寸可达300mm，分辨率（像素尺寸）可达60纳米•金刚石窗口x射线源，焦斑尺寸<500nm•创新的探测器模块化设计，可支持4个探测器、可现场升级。•全球速度很快的3D重建软件（InstaRecon®）。•支持精确的螺旋扫描重建算法。•近似免维护的系统，缩短停机时间并降低拥有成本。

SKYSCAN1273的大样品室能容纳的样品，比通过单个探测器视场所能扫描的范围还要大。通过分段式扫描和探测器偏置扫描，SKYSCAN1273可以扫描直径达到250mm和长度达到250mm的大型物体。3D.SUITE可自动和无缝地将超大尺寸的图像拼接到一起。SKYSCAN1273地质XRM能对不同的地质材料（从很小的矿物样品到全尺寸的大型岩心）进行无损检测。1.定量分析粒度、开/闭孔隙度和连通性等结构参数2.计算矿物相的3D分布情况3.通过原位力学实验，实现样品结构与力学性能的关联4.多孔介质中的流体流动、结晶和溶解等过程的可视化。软件还包括平滑处理，保存矢状面或冠状面差值数据，测量和保存距离及强度曲线。

技术规范：X射线源：20-100kV，10W，焦点尺寸＜5μm@4WX射线探测器：1600万像素（4904×3280像素）或1100万像素（4032×2688像素）14位冷却式CCD光纤连接至闪烁体标称分辨率（放大率下样品的像素）：1600万像素探测器＜0.35um；1100万像素探测器＜0.45um，重建容积图（单次扫描）：1600万像素探测器，14456×14456×2630像素1100万像素探测器，11840×11840×2150像素扫描空间：0-直径75mm，长70mm辐射安全：在仪器表面的任何一点上＜1uSv/h外形尺寸：1160（宽）×520（深）×330（高）毫米（带样品切换器高440毫米）重量：150千克，不含包装电源：100-240V/50-60Hz。SKYSCAN 1272 CMOS XRM可以无损地实现泡沫内部结构的三维可视化。半导体失效分析

SKYSCAN 1275专为快速扫描多种样品而设计，采用广角X射线源和大型平板探测器,可以轻松实现大尺寸样品扫描。半导体失效分析

SKYSCAN2214应用纤维和复合材料通过将材料组合成复合材料，获得的组件可以拥有更高的强度，同时大为减轻重量。而要想进一步优化组件性能，就必须确保组成成分的方向能被优化。常用的组分之一是纤维，有混凝土中的钢筋，电子元件中的玻璃纤维，还有航空材料中的碳纳米管。XRM可用于检测纤维和复合材料，而无需进行横切，从而确保样品状态不会在制备样品的过程中受到影响。嵌入对象的方向层厚、纤维尺寸和间隔的定量分析采用原位样品台检测温度和物理性质。半导体失效分析