高锰酸钾基本参数
  • 品牌
  • 广试
  • 纯度级别
  • 分析纯AR,化学纯CP
  • 用途类别
  • 色谱分析用试剂
  • 产品性状
  • 固态粉末
  • 化学式
  • KMnO4
  • 相对分子质量
  • 158.03
  • 产品颜色
  • 黑紫色、细长棱形、粒状、针状或流沙状结晶,带蓝色的金属光泽,
  • 贮存方法
  • 密封保存
  • 厂家
  • 广州化学试剂厂
  • CAS
  • 7722-64-7
  • 产地
  • 广东
高锰酸钾企业商机

珠宝首饰在日常佩戴过程中会沾染污垢、油脂以及被氧化变色,影响其光泽和美观。对于一些金属材质的珠宝首饰,如银饰、铜饰等,高锰酸钾可用于清洗保养。将适量高锰酸钾溶解在水中,配制成稀溶液,把珠宝首饰浸泡其中一段时间。高锰酸钾能够氧化首饰表面因氧化形成的氧化物,如银饰表面的硫化银、铜饰表面的氧化铜,使其恢复原本的金属光泽。同时,它还能分解首饰表面的油脂和有机污垢,起到清洁作用。在清洗过程中,要严格控制溶液浓度和浸泡时间,避免对首饰造成过度腐蚀。经过高锰酸钾清洗保养的珠宝首饰,焕然一新,延长了其使用寿命,保持了较高的观赏价值和收藏价值。 香料生产时,高锰酸钾参与某些香料合成反应,影响香料的气味和品质。试剂高锰酸钾主要作用

电子元件在生产和使用过程中,表面容易吸附灰尘、油污以及一些有机污染物,影响其性能和使用寿命。高锰酸钾溶液可用于电子元件的清洗。其强氧化性能够氧化分解电子元件表面的有机污染物,使其转化为易溶于水的小分子物质,便于清洗去除。对于一些金属氧化物等杂质,高锰酸钾在酸性条件下也能与之发生反应,将其溶解或转化为更容易清洗掉的形态。在清洗过程中,要严格控制高锰酸钾溶液的浓度和清洗时间,防止对电子元件的金属表面或敏感部位造成腐蚀。通过高锰酸钾清洗,能够有效提高电子元件的清洁度,保障电子设备的稳定运行,延长其使用寿命。 试剂高锰酸钾主要作用工业废水处理时,高锰酸钾能与废水中的污染物发生氧化反应,降低污染物含量。

化学镀是一种在金属或非金属表面通过化学反应沉积金属镀层的技术,高锰酸钾在其中有独特的应用。在一些化学镀镍工艺中,高锰酸钾可以作为镀液的添加剂。它能够影响镀液的稳定性和镀层的质量。一方面,高锰酸钾的氧化性可以调节镀液中还原剂的氧化还原电位,控制反应速率,避免镀液过快分解,提高镀液的使用寿命。另一方面,在镀层沉积过程中,高锰酸钾参与反应,对镀层的结构和性能产生影响。例如,它可以细化镀层晶粒,使镀层更加致密,从而提高镀层的耐腐蚀性和硬度。通过合理添加高锰酸钾,能够优化化学镀工艺,获得性能更优良的金属镀层,满足电子、机械等行业对材料表面性能的要求。

在新能源电池领域,提升电极材料性能是关键。高锰酸钾可用于电池电极材料的改性。以锂离子电池的石墨负极材料为例,将石墨浸泡在高锰酸钾溶液中,高锰酸钾会对石墨表面进行氧化刻蚀。这一过程在石墨表面引入了一些含氧官能团,如羟基、羧基等。这些官能团的存在增加了石墨表面的活性位点,改善了电极材料与电解液之间的润湿性。当改性后的石墨作为负极应用于锂离子电池时,能够提高锂离子的嵌入和脱出效率,增强电池的充放电性能,提升电池的容量和循环寿命。通过高锰酸钾对电极材料的改性,为新能源电池性能的优化提供了一种可行途径,推动了新能源电池技术的发展,以满足日益增长的能源需求。 高锰酸钾在氧化还原滴定实验中,作为标准溶液发挥着关键的定量分析作用。

印刷电路板蚀刻过程中会产生大量含有铜离子等重金属和有机污染物的废液。高锰酸钾可用于蚀刻废液处理。首先,高锰酸钾能够氧化废液中的有机物,降低其化学需氧量,减轻对环境的污染。其次,对于废液中的铜离子,在一定条件下,高锰酸钾可将其氧化为氧化铜等沉淀形式,便于后续通过过滤等方法回收铜资源。通过对蚀刻废液进行高锰酸钾处理,既减少了废液对环境的危害,又实现了铜等金属资源的回收利用,降低了印刷电路板生产过程中的成本,符合环保和资源节约的双重要求,促进电子行业的绿色发展。 制药车间消毒时,高锰酸钾作为消毒剂,确保车间环境符合药品生产标准。试剂高锰酸钾主要作用

摄影暗房维护中,高锰酸钾用于清洁和消毒暗房设备,保证摄影工作顺利进行。试剂高锰酸钾主要作用

纺织印染助剂对于提高纺织品的染色效果、色牢度等性能至关重要。高锰酸钾在纺织印染助剂合成中有独特应用。在合成一些具有特殊功能的印染助剂时,高锰酸钾可作为氧化剂参与反应。例如,在合成含有特定官能团的聚合物型印染助剂时,通过加高锰酸钾的加入量和反应条件,能够引发单体之间的聚合反应,并对聚合物的结构进行修饰。高锰酸钾的氧化作用可以在聚合物分子链上引入一些极性基团,增强助剂与纤维之间的结合力,提高助剂在印染过程中的效果,使纺织品染色更均匀、色牢度更高,满足纺织印染行业对质量助剂的需求。 试剂高锰酸钾主要作用

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