安徽PAT解决方案

半导体测试是半导体制造过程中质量的一道关键防线，扮演着日益关键角色，单纯依赖传统电性测试的“通过/失败”界限，已无法满足对产品“零缺陷”的追求。为了大力提升测试覆盖度，构筑更为坚固的质量防线，采用GDBN技术来识别并剔除那些位于“不良环境”中的高风险芯片，已成为车规、工规等类产品不可或缺的必要手段。

细化需求。

为此，上海伟诺信息科技有限公司为客户提供了一套包含多重GDBN算法的综合解决方案，该方案具备高度的灵活性与强大的适应性，能够精确满足半导体设计公司与CP测试厂对提升产品可靠性的关键诉求，成为客户应对高质量挑战的可靠伙伴，共同构筑面向未来的半导体质量防线。 Mapping Over Ink处理通过空间分析有效识别外观损伤引起的隐性失效，提升可靠性。安徽PAT解决方案

良率管理系统的价值不仅在于技术实现，更在于对半导体企业关键痛点的精确回应。当设计公司或制造工厂面临测试数据分散、格式混乱、分析滞后等问题时，YMS系统通过对接ETS364、SineTest、Juno、AMIDA、CTA8280、T861等设备，自动完成从数据采集到异常过滤的全流程治理。标准化数据库为多维度分析奠定基础，使时间趋势、区域对比、参数关联等洞察成为可能。例如，通过对比同一晶圆边缘与中心区域的良率差异，可判断光刻或刻蚀工艺的均匀性问题；结合FT与CP数据偏差，可追溯封装环节的潜在风险。SYL与SBL的自动计算功能，则为良率目标达成提供量化依据。报表系统支持灵活配置与多格式导出，明显降低管理沟通成本。上海伟诺信息科技有限公司以“以信为本，以质取胜”为准则，推动YMS成为国产半导体提质增效的可靠伙伴。青海晶圆GDBC系统定制Mapping数据经解析后与Bin信息精确对齐，确保测试结果可追溯。

良率波动若不能及时干预，可能造成数百万级的产能损失。YMS系统通过自动化流程，即时采集并清洗来自多种测试平台的异构数据，构建高可信度分析基础。系统支持从宏观趋势到微观缺陷的穿透式分析，例如将某产品月度良率下降与特定封装线关联，并结合FT参数验证是否为打线偏移导致。SYL/SBL卡控机制设置动态阈值，在指标异常时自动预警，实现前置质量管控。多周期报表自动生成并支持多格式导出，使管理层能基于一致数据源快速决策。这种“实时感知—智能归因—主动干预”的能力，将良率管理从经验驱动升级为数据驱动。上海伟诺信息科技有限公司以“以信为本，以质取胜”为准则，持续打磨YMS的可靠性与实用性。

面对国产替代需求，选择具备技术自主性和行业适配能力的良率管理系统厂商至关重要。上海伟诺信息科技有限公司的YMS系统兼容主流Tester平台，覆盖十余种测试数据格式，实现从采集、解析到异常过滤的全流程自动化。其分析引擎支持时间序列追踪、晶圆区域对比及WAT/CP/FT参数联动，精确识别影响良率的关键因素。SYL/SBL卡控与灵活报表导出功能，进一步强化过程管控与决策支持。更重要的是，系统背后有完整的实施与服务体系支撑，确保从部署到优化的每个环节可靠落地。这种“软硬协同”的能力，使YMS在国产软件生态中具备强大竞争力。伟诺依托多年项目积累，持续验证其作为本土良率管理解决方案提供者的专业价值。GDBC算法识别的聚类区域常指向设备或掩模问题，反馈工艺优化方向。

为提升晶圆测试（CP测试）的质量与可靠性，行业的关注点已从单一的电性性能测试，扩展到电性与物理外观并重的综合质量评估。因此，越来越多的公司在CP测试环节中，引入外观检测设备（AOI,AutomatedOpticalInspection），对晶圆上每个Die的表面进行高精度、自动化的扫描与检测，以识别并剔除那些存在裂纹、划痕、污染、崩边或缺损等物理缺陷的不良品。这种做法的价值在于，它弥补了传统电性测试的盲区。一颗芯片可能电性参数测试“通过”，但其物理结构已存在潜在损伤。这类“带伤”的芯片在后续的封装应力或终端应用中有极高早期失效的风险，是产品可靠性的重大隐患。通过AOI检测，可以在晶圆阶段就将这些物理不良品精确拦截。
上海伟诺信息科技有限公司提供专业的AOI与Probe Mapping堆叠方案，解决两大关键问题：一是通过数据融合，筛除外观与电性的全部不良品，生成高可靠性的合一Mapping；二是具备优异的兼容性，可将合并后的Mapping直接转换为各类探针台（如TSK、TEL、UF3000等）可识别的格式，实现从质量判定到生产执行的自动化，有效提升品质与效率。失效Die的空间分布特征是判断工艺问题的关键依据，指导制程参数优化。安徽PAT解决方案

上海伟诺信息科技mapping去边功能，采用灵活配置的方式帮助用户剔除Mapping边缘潜在质量风险芯片。安徽PAT解决方案

晶圆边缘区域良率持续偏低却难以定位原因，是工艺工程师常见的痛点。YMS系统在完成stdf、log等原始数据清洗后，依据晶圆空间坐标对缺陷进行分类，生成色彩渐变的热力图，直观呈现中心、过渡区与边缘的缺陷密度差异。用户可对比不同批次在同一区域的表现，识别是否为光刻对焦偏差或刻蚀均匀性问题所致。叠加时间维度后，还能判断该现象是偶发异常还是系统性漂移。这种空间+时间的双维分析，使优化措施从“整体调整”转向“精确干预”，明显提升工艺调试效率。上海伟诺信息科技有限公司基于半导体制造的实际需求，将YMS打造为缺陷定位的可视化利器。安徽PAT解决方案

上海伟诺信息科技有限公司是一家有着雄厚实力背景、信誉可靠、励精图治、展望未来、有梦想有目标，有组织有体系的公司，坚持于带领员工在未来的道路上大放光明，携手共画蓝图，在上海市等地区的数码、电脑行业中积累了大批忠诚的客户粉丝源，也收获了良好的用户口碑，为公司的发展奠定的良好的行业基础，也希望未来公司能成为*****，努力为行业领域的发展奉献出自己的一份力量，我们相信精益求精的工作态度和不断的完善创新理念以及自强不息，斗志昂扬的的企业精神将**和您一起携手步入辉煌，共创佳绩，一直以来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，员工精诚努力，协同奋取，以品质、服务来赢得市场，我们一直在路上！